Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
This work is devoted to measuring the function of the distribution of charged particles of gas-discharge plasma in a magnetron sputtering system under conditions of non-potential “earth”. Measurements are carried out with the help of a three-electrode probe, which is installed in the cathode sputter...
Збережено в:
| Дата: | 2021 |
|---|---|
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2021
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194765 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 102-105. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |