Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration

This work is devoted to measuring the function of the distribution of charged particles of gas-discharge plasma in a magnetron sputtering system under conditions of non-potential “earth”. Measurements are carried out with the help of a three-electrode probe, which is installed in the cathode sputter...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2021
Автори: Chunadra, А.G., Sereda, К.N., Tarasov, I.K., Makhlai, V.A.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2021
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194765
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 102-105. — Бібліогр.: 7 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-194765
record_format dspace
spelling irk-123456789-1947652023-11-29T17:08:44Z Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration Chunadra, А.G. Sereda, К.N. Tarasov, I.K. Makhlai, V.A. Low temperature plasma and plasma technologies This work is devoted to measuring the function of the distribution of charged particles of gas-discharge plasma in a magnetron sputtering system under conditions of non-potential “earth”. Measurements are carried out with the help of a three-electrode probe, which is installed in the cathode sputtering zone, with unsafe electrodes and housing. The selection of the analyzed particles was carried out through a screen located under floating potential. Effect of additional magnetic insulation anode of MSS МАG-5 on ion and electron distribution functions was investigated. Робота присвячена вимірюванню функції розподілу заряджених частинок газорозрядної плазми в магнетронній розпорошувальній системі в умовах непотенційної «землі». Вимірювання проведені за допомогою триелектродного зонду, який встановлено в зоні катодного розпилення, з незаземленими електродами і корпусом. Відбір досліджуваних частинок проводили через екран, розташований під плаваючим потенціалом. Досліджено вплив додаткової магнітоізоляції анода МРС МАГ-5 на функції розподілу іонів та електронів. Работа посвящена измерению функции распределения заряженных частиц газоразрядной плазмы в магнетронной распылительной системе в условиях непотенциальной «земли». Измерения проведены с помощью триэлектродного зонда, расположенного в зоне катодного распыления, с незаземленными электродами и корпусом. Отбор исследуемых частиц проводили через экран, находящийся под плавающим потенциалом. Исследовано влияние дополнительной магнитоизоляции анода МРС МАГ-5 на функции распределения ионов и электронов. 2021 Article Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 102-105. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 51.50.+v, 52.25.Jm http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194765 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Low temperature plasma and plasma technologies
Low temperature plasma and plasma technologies
spellingShingle Low temperature plasma and plasma technologies
Low temperature plasma and plasma technologies
Chunadra, А.G.
Sereda, К.N.
Tarasov, I.K.
Makhlai, V.A.
Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
Вопросы атомной науки и техники
description This work is devoted to measuring the function of the distribution of charged particles of gas-discharge plasma in a magnetron sputtering system under conditions of non-potential “earth”. Measurements are carried out with the help of a three-electrode probe, which is installed in the cathode sputtering zone, with unsafe electrodes and housing. The selection of the analyzed particles was carried out through a screen located under floating potential. Effect of additional magnetic insulation anode of MSS МАG-5 on ion and electron distribution functions was investigated.
format Article
author Chunadra, А.G.
Sereda, К.N.
Tarasov, I.K.
Makhlai, V.A.
author_facet Chunadra, А.G.
Sereda, К.N.
Tarasov, I.K.
Makhlai, V.A.
author_sort Chunadra, А.G.
title Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
title_short Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
title_full Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
title_fullStr Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
title_full_unstemmed Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
title_sort control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2021
topic_facet Low temperature plasma and plasma technologies
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194765
citation_txt Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, V.A. Makhlai // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 102-105. — Бібліогр.: 7 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT chunadraag controlofionizationprocessesinmagnetronsputteringsystembychangingmagneticfieldconfiguration
AT seredakn controlofionizationprocessesinmagnetronsputteringsystembychangingmagneticfieldconfiguration
AT tarasovik controlofionizationprocessesinmagnetronsputteringsystembychangingmagneticfieldconfiguration
AT makhlaiva controlofionizationprocessesinmagnetronsputteringsystembychangingmagneticfieldconfiguration
first_indexed 2024-03-31T09:12:52Z
last_indexed 2024-03-31T09:12:52Z
_version_ 1796157984046317568