Potential part of electric field of ICP coil
ICP devices are widespread in modern technology, so the capacitive coupling in ICP is well known. It does not make a sufficient impact to the power deposition in plasma, and mostly it assumed to be a harmful effect [1]. Fortunately, making use of Faraday shield allows one to avoid a detail investiga...
Збережено в:
Дата: | 2021 |
---|---|
Автори: | Azarenkov, N.A., Gapon, A.V. |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2021
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194775 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Potential part of electric field of ICP coil / N.A. Azarenkov, A.V. Gapon // Problems of atomic science and tecnology. — 2021. — № 1. — С. 150-153. — Бібліогр.: 2 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
2D fluid model for interactive development of ICP technological tools
за авторством: Gapon, A.V., та інші
Опубліковано: (2006) -
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006) -
Two-stream nonlinear langmuir oscillations
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023) -
The influence of a DC electric field on the radio-frequency microdischarge
за авторством: Bogatov, N.A.
Опубліковано: (2005) -
Transport processes in the low pressure gas discharge plasma
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)