Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma

Comparative studies of diamond coatings deposition have been carried out in the glow discharge plasma stabilized by a magnetic field in methane-hydrogen medium with using the DC or pulse power supply. It was shown that using of a pulsed power supply leads to an increase of the input power range at w...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2019
Автори: Koshevoy, K.I., Volkov, Yu.Ya., Strel’nitskij, V.E., Reshetnyak, E.N.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2019
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194829
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma / K.I. Koshevoy, Yu.Ya. Volkov, V.E. Strel’nitskij, E.N. Reshetnyak // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 197-200. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-194829
record_format dspace
spelling irk-123456789-1948292023-11-30T16:48:05Z Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma Koshevoy, K.I. Volkov, Yu.Ya. Strel’nitskij, V.E. Reshetnyak, E.N. Low temperature plasma and plasma technologies Comparative studies of diamond coatings deposition have been carried out in the glow discharge plasma stabilized by a magnetic field in methane-hydrogen medium with using the DC or pulse power supply. It was shown that using of a pulsed power supply leads to an increase of the input power range at which the discharge is stable in comparison with DC one. In addition a significant increase of the samples temperature and the diamond coating growth rate were achieved at the same average power introduced into the discharge. The resulting diamond coating was of high quality and purity. Були проведені порівняльні дослідження по застосуванню як імпульсного, так і постійного джерел струму для осадження алмазних покриттів у плазмі тліючого розряду, стабілізованого магнітним полем у метановодневому середовищі. Показано, що використання імпульсного джерела живлення призводить до збільшення діапазону вхідної потужності, при якій розряд стійкий в порівнянні з розрядом постійного струму. Крім того, при тій же середній потужності, що вводиться в розряд, досягається значне збільшення температури зразків і швидкості росту алмазного покриття. Отримане алмазне покриття відрізняється високою якістю і чистотою. Были проведены сравнительные исследования по применению как импульсного, так и постоянного источников тока для осаждения алмазных покрытий в плазме тлеющего разряда, стабилизированного магнитным полем в метановодородной среде. Показано, что использование импульсного источника питания приводит к увеличению диапазона входной мощности, при которой разряд устойчив по сравнению с разрядом постоянного тока. Кроме того, при той же средней мощности, вводимой в разряд, достигается значительное увеличение температуры образцов и скорости роста алмазного покрытия. Полученное алмазное покрытие отличается высоким качеством и чистотой. 2019 Article Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma / K.I. Koshevoy, Yu.Ya. Volkov, V.E. Strel’nitskij, E.N. Reshetnyak // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 197-200. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77.Dq,81.15.Jj http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194829 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Low temperature plasma and plasma technologies
Low temperature plasma and plasma technologies
spellingShingle Low temperature plasma and plasma technologies
Low temperature plasma and plasma technologies
Koshevoy, K.I.
Volkov, Yu.Ya.
Strel’nitskij, V.E.
Reshetnyak, E.N.
Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
Вопросы атомной науки и техники
description Comparative studies of diamond coatings deposition have been carried out in the glow discharge plasma stabilized by a magnetic field in methane-hydrogen medium with using the DC or pulse power supply. It was shown that using of a pulsed power supply leads to an increase of the input power range at which the discharge is stable in comparison with DC one. In addition a significant increase of the samples temperature and the diamond coating growth rate were achieved at the same average power introduced into the discharge. The resulting diamond coating was of high quality and purity.
format Article
author Koshevoy, K.I.
Volkov, Yu.Ya.
Strel’nitskij, V.E.
Reshetnyak, E.N.
author_facet Koshevoy, K.I.
Volkov, Yu.Ya.
Strel’nitskij, V.E.
Reshetnyak, E.N.
author_sort Koshevoy, K.I.
title Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
title_short Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
title_full Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
title_fullStr Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
title_full_unstemmed Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
title_sort application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2019
topic_facet Low temperature plasma and plasma technologies
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194829
citation_txt Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma / K.I. Koshevoy, Yu.Ya. Volkov, V.E. Strel’nitskij, E.N. Reshetnyak // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 1. — С. 197-200. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT koshevoyki applicationofpulsepowersupplyfordiamondcoatingsdepositioninglowdischargeplasma
AT volkovyuya applicationofpulsepowersupplyfordiamondcoatingsdepositioninglowdischargeplasma
AT strelnitskijve applicationofpulsepowersupplyfordiamondcoatingsdepositioninglowdischargeplasma
AT reshetnyaken applicationofpulsepowersupplyfordiamondcoatingsdepositioninglowdischargeplasma
first_indexed 2024-03-31T09:13:08Z
last_indexed 2024-03-31T09:13:08Z
_version_ 1796157990150078464