Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc
An analytical model of the interaction of macroparticle (MP) with vacuum arc plasma in plasma immersion ion implantation (PIII) is presented. The proposed model is based on combination of the theory of charge dynamics of MP and sheath model for PIII. In the framework of this model, the MP charge dyn...
Збережено в:
| Дата: | 2019 |
|---|---|
| Автори: | , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2019
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195192 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 4. — С. 120-123. — Бібліогр.: 17 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-195192 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-1951922023-12-03T16:50:48Z Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. Gas and plasma-beam discharges and their applications An analytical model of the interaction of macroparticle (MP) with vacuum arc plasma in plasma immersion ion implantation (PIII) is presented. The proposed model is based on combination of the theory of charge dynamics of MP and sheath model for PIII. In the framework of this model, the MP charge dynamics during voltage pulse as well as during interval between pulses is investigated. It is obtained that MP charge and MP behavior depend on pulsed bias parameters such as pulse duration, duty cycle and bias amplitude. It is shown that pulsed substrate biasing is effective method to control of the MPs in plasma processing. Подано аналітичну теорії взаємодії макрочастинки (МЧ) з плазмою вакуумної дуги при плазмовій імерсійній іонній імплантації (ПІІІ). Запропонована модель базується на комбінації теорії динаміки зарядження МЧ та теорії шару для ПІІІ. У рамках цієї моделі досліджується динаміка зарядження як протягом імпульсу, так і в інтервал між імпульсами. Отримано, що заряд та поведінка МЧ залежать від параметрів імпульсного потенціалу, таких як тривалість імпульсу, період та амплітуда потенціалу. Показано, що застосування імпульсного потенціалу є ефективним методом контролю за МЧ у плазмових процесах. Представлена модель взаимодействия макрочастицы (МЧ) с плазмой вакуумной дуги при плазменной иммерсионной ионной имплантации (ПИИИ). Предложенная модель основана на комбинации теории динамики заряда МЧ и модели слоя для ПИИИ. В рамках этой модели исследуется динамика заряда МЧ как во время импульса, так и в интервале между импульсами. Получено, что заряд и поведение МЧ зависят от параметров импульсного потенциала, таких как длительность импульса, период и амплитуда потенциала. Показано, что применение импульсного потенциала является эффективным методом контроля МЧ в плазменных процессах. 2019 Article Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 4. — С. 120-123. — Бібліогр.: 17 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.40.Hf http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195192 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
English |
| topic |
Gas and plasma-beam discharges and their applications Gas and plasma-beam discharges and their applications |
| spellingShingle |
Gas and plasma-beam discharges and their applications Gas and plasma-beam discharges and their applications Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc Вопросы атомной науки и техники |
| description |
An analytical model of the interaction of macroparticle (MP) with vacuum arc plasma in plasma immersion ion implantation (PIII) is presented. The proposed model is based on combination of the theory of charge dynamics of MP and sheath model for PIII. In the framework of this model, the MP charge dynamics during voltage pulse as well as during interval between pulses is investigated. It is obtained that MP charge and MP behavior depend on pulsed bias parameters such as pulse duration, duty cycle and bias amplitude. It is shown that pulsed substrate biasing is effective method to control of the MPs in plasma processing. |
| format |
Article |
| author |
Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. |
| author_facet |
Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. |
| author_sort |
Romashchenko, E.V. |
| title |
Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc |
| title_short |
Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc |
| title_full |
Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc |
| title_fullStr |
Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc |
| title_full_unstemmed |
Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc |
| title_sort |
effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| publishDate |
2019 |
| topic_facet |
Gas and plasma-beam discharges and their applications |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195192 |
| citation_txt |
Effect of pulsed substrate biasing on macroparticle in vacuum arc / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Problems of atomic science and technology. — 2019. — № 4. — С. 120-123. — Бібліогр.: 17 назв. — англ. |
| series |
Вопросы атомной науки и техники |
| work_keys_str_mv |
AT romashchenkoev effectofpulsedsubstratebiasingonmacroparticleinvacuumarc AT bizyukovaa effectofpulsedsubstratebiasingonmacroparticleinvacuumarc AT girkaio effectofpulsedsubstratebiasingonmacroparticleinvacuumarc |
| first_indexed |
2024-03-31T09:14:44Z |
| last_indexed |
2024-03-31T09:14:44Z |
| _version_ |
1796158025642278912 |