Установка для прецизійного іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок
Створена установка для іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок та інших наноструктур. Установка містить високовакуумну систему відкачки, систему напуску робочих газів, камеру геліконного розряду, камеру дрейфа, вакуумно-дугові джерела, джерела живлення та систему контролю з малогабаритним...
Збережено в:
| Дата: | 2009 |
|---|---|
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Ukrainian |
| Опубліковано: |
Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
2009
|
| Назва видання: | Наука та інновації |
| Теми: | |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Установка для прецизійного іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок / Е.М. Руденко, І.В. Короташ, В.Ф. Семенюк, К.П. Шамрай // Наука та інновації. — 2009. — Т. 5, № 5. — С. 5-8. — Бібліогр.: 3 назв. — укр. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | Створена установка для іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок та інших наноструктур. Установка містить високовакуумну систему відкачки, систему напуску робочих газів, камеру геліконного розряду, камеру дрейфа, вакуумно-дугові джерела, джерела живлення та систему контролю з малогабаритним оптичним спектрометром. Установка інтегрує процеси плазмово-стимульованого хімічного парофазного осадження, очищення та активації поверхні підкладки у плазмі розряду, нанесення перехідних адгезійних шарів та шарів металу-каталізатора, а також процес безпосереднього формування вуглецевих наноструктур. |
|---|