Влияние термического окисления на анизотропию электропроводности и фотопроводимости наноструктурированного кремния

Обнаружено, что термическое окисление оказывает различное влияние на проводимость слоев пористого кремния, измеряемую вдоль различных кристаллографических направлений, что можно объяснить наличием потенциальных барьеров на границах связанных кремниевых нанокристаллов....

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2009
Автори: Форш, П.А., Форш, Е.А., Мартышов, М.Н., Тимошенко, В.Ю., Кашкаров, П.К.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2009
Назва видання:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/52328
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Влияние термического окисления на анизотропию электропроводности и фотопроводимости наноструктурированного кремния / П.А Форш., Е.А. Форш, М.Н. Мартышов, В.Ю. Тимошенко, П.К. Кашкаров // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 35-37. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-52328
record_format dspace
spelling irk-123456789-523282013-12-30T03:11:18Z Влияние термического окисления на анизотропию электропроводности и фотопроводимости наноструктурированного кремния Форш, П.А. Форш, Е.А. Мартышов, М.Н. Тимошенко, В.Ю. Кашкаров, П.К. Функциональная микро- и наноэлектроника Обнаружено, что термическое окисление оказывает различное влияние на проводимость слоев пористого кремния, измеряемую вдоль различных кристаллографических направлений, что можно объяснить наличием потенциальных барьеров на границах связанных кремниевых нанокристаллов. 2009 Article Влияние термического окисления на анизотропию электропроводности и фотопроводимости наноструктурированного кремния / П.А Форш., Е.А. Форш, М.Н. Мартышов, В.Ю. Тимошенко, П.К. Кашкаров // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 35-37. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. 2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/52328 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
topic Функциональная микро- и наноэлектроника
Функциональная микро- и наноэлектроника
spellingShingle Функциональная микро- и наноэлектроника
Функциональная микро- и наноэлектроника
Форш, П.А.
Форш, Е.А.
Мартышов, М.Н.
Тимошенко, В.Ю.
Кашкаров, П.К.
Влияние термического окисления на анизотропию электропроводности и фотопроводимости наноструктурированного кремния
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Обнаружено, что термическое окисление оказывает различное влияние на проводимость слоев пористого кремния, измеряемую вдоль различных кристаллографических направлений, что можно объяснить наличием потенциальных барьеров на границах связанных кремниевых нанокристаллов.
format Article
author Форш, П.А.
Форш, Е.А.
Мартышов, М.Н.
Тимошенко, В.Ю.
Кашкаров, П.К.
author_facet Форш, П.А.
Форш, Е.А.
Мартышов, М.Н.
Тимошенко, В.Ю.
Кашкаров, П.К.
author_sort Форш, П.А.
title Влияние термического окисления на анизотропию электропроводности и фотопроводимости наноструктурированного кремния
title_short Влияние термического окисления на анизотропию электропроводности и фотопроводимости наноструктурированного кремния
title_full Влияние термического окисления на анизотропию электропроводности и фотопроводимости наноструктурированного кремния
title_fullStr Влияние термического окисления на анизотропию электропроводности и фотопроводимости наноструктурированного кремния
title_full_unstemmed Влияние термического окисления на анизотропию электропроводности и фотопроводимости наноструктурированного кремния
title_sort влияние термического окисления на анизотропию электропроводности и фотопроводимости наноструктурированного кремния
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
publishDate 2009
topic_facet Функциональная микро- и наноэлектроника
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/52328
citation_txt Влияние термического окисления на анизотропию электропроводности и фотопроводимости наноструктурированного кремния / П.А Форш., Е.А. Форш, М.Н. Мартышов, В.Ю. Тимошенко, П.К. Кашкаров // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2009. — № 6. — С. 35-37. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.
series Технология и конструирование в электронной аппаратуре
work_keys_str_mv AT foršpa vliânietermičeskogookisleniânaanizotropiûélektroprovodnostiifotoprovodimostinanostrukturirovannogokremniâ
AT foršea vliânietermičeskogookisleniânaanizotropiûélektroprovodnostiifotoprovodimostinanostrukturirovannogokremniâ
AT martyšovmn vliânietermičeskogookisleniânaanizotropiûélektroprovodnostiifotoprovodimostinanostrukturirovannogokremniâ
AT timošenkovû vliânietermičeskogookisleniânaanizotropiûélektroprovodnostiifotoprovodimostinanostrukturirovannogokremniâ
AT kaškarovpk vliânietermičeskogookisleniânaanizotropiûélektroprovodnostiifotoprovodimostinanostrukturirovannogokremniâ
first_indexed 2023-10-18T18:18:20Z
last_indexed 2023-10-18T18:18:20Z
_version_ 1796143851143954432