Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами
Определены основные критерии выбора редкоземельных элементов для использования в технологии жидкофазной эпитаксии слоев GaAs с высокой подвижностыю электронов.
Збережено в:
Дата: | 2007 |
---|---|
Автори: | , |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2007
|
Назва видання: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/52781 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами / С.И. Круковский, Н.Я. Сыворотка // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 2. — С. 47-51. — Бібліогр.: 15 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraineid |
irk-123456789-52781 |
---|---|
record_format |
dspace |
spelling |
irk-123456789-527812014-01-07T03:07:35Z Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами Круковский, С.И. Сыворотка, Н.Я. Материалы Определены основные критерии выбора редкоземельных элементов для использования в технологии жидкофазной эпитаксии слоев GaAs с высокой подвижностыю электронов. 2007 Article Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами / С.И. Круковский, Н.Я. Сыворотка // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 2. — С. 47-51. — Бібліогр.: 15 назв. — рос. 2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/52781 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
collection |
DSpace DC |
language |
Russian |
topic |
Материалы Материалы |
spellingShingle |
Материалы Материалы Круковский, С.И. Сыворотка, Н.Я. Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
description |
Определены основные критерии выбора редкоземельных элементов для использования в технологии жидкофазной эпитаксии слоев GaAs с высокой подвижностыю электронов. |
format |
Article |
author |
Круковский, С.И. Сыворотка, Н.Я. |
author_facet |
Круковский, С.И. Сыворотка, Н.Я. |
author_sort |
Круковский, С.И. |
title |
Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами |
title_short |
Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами |
title_full |
Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами |
title_fullStr |
Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами |
title_full_unstemmed |
Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами |
title_sort |
свойства эпитаксиальных слоев gaas, легированных редкоземельными элементами |
publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
publishDate |
2007 |
topic_facet |
Материалы |
url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/52781 |
citation_txt |
Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами / С.И. Круковский, Н.Я. Сыворотка // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 2. — С. 47-51. — Бібліогр.: 15 назв. — рос. |
series |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
work_keys_str_mv |
AT krukovskijsi svojstvaépitaksialʹnyhsloevgaaslegirovannyhredkozemelʹnymiélementami AT syvorotkanâ svojstvaépitaksialʹnyhsloevgaaslegirovannyhredkozemelʹnymiélementami |
first_indexed |
2023-10-18T18:19:20Z |
last_indexed |
2023-10-18T18:19:20Z |
_version_ |
1796143897522470912 |