Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами

Определены основные критерии выбора редкоземельных элементов для использования в технологии жидкофазной эпитаксии слоев GaAs с высокой подвижностыю электронов.

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2007
Автори: Круковский, С.И., Сыворотка, Н.Я.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2007
Назва видання:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/52781
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами / С.И. Круковский, Н.Я. Сыворотка // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 2. — С. 47-51. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-52781
record_format dspace
spelling irk-123456789-527812014-01-07T03:07:35Z Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами Круковский, С.И. Сыворотка, Н.Я. Материалы Определены основные критерии выбора редкоземельных элементов для использования в технологии жидкофазной эпитаксии слоев GaAs с высокой подвижностыю электронов. 2007 Article Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами / С.И. Круковский, Н.Я. Сыворотка // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 2. — С. 47-51. — Бібліогр.: 15 назв. — рос. 2225-5818 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/52781 ru Технология и конструирование в электронной аппаратуре Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
topic Материалы
Материалы
spellingShingle Материалы
Материалы
Круковский, С.И.
Сыворотка, Н.Я.
Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Определены основные критерии выбора редкоземельных элементов для использования в технологии жидкофазной эпитаксии слоев GaAs с высокой подвижностыю электронов.
format Article
author Круковский, С.И.
Сыворотка, Н.Я.
author_facet Круковский, С.И.
Сыворотка, Н.Я.
author_sort Круковский, С.И.
title Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами
title_short Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами
title_full Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами
title_fullStr Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами
title_full_unstemmed Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами
title_sort свойства эпитаксиальных слоев gaas, легированных редкоземельными элементами
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
publishDate 2007
topic_facet Материалы
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/52781
citation_txt Свойства эпитаксиальных слоев GaAs, легированных редкоземельными элементами / С.И. Круковский, Н.Я. Сыворотка // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2007. — № 2. — С. 47-51. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.
series Технология и конструирование в электронной аппаратуре
work_keys_str_mv AT krukovskijsi svojstvaépitaksialʹnyhsloevgaaslegirovannyhredkozemelʹnymiélementami
AT syvorotkanâ svojstvaépitaksialʹnyhsloevgaaslegirovannyhredkozemelʹnymiélementami
first_indexed 2023-10-18T18:19:20Z
last_indexed 2023-10-18T18:19:20Z
_version_ 1796143897522470912