2025-02-23T00:22:00-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: Query fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-70875%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T00:22:00-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: => GET http://localhost:8983/solr/biblio/select?fl=%2A&wt=json&json.nl=arrarr&q=id%3A%22irk-123456789-70875%22&qt=morelikethis&rows=5
2025-02-23T00:22:00-05:00 DEBUG: VuFindSearch\Backend\Solr\Connector: <= 200 OK
2025-02-23T00:22:00-05:00 DEBUG: Deserialized SOLR response
Особенности получения тонких пленок SiO₂ методом быстрой термической обработки

Особенности получения тонких пленок SiO₂ методом быстрой термической обработки

Рассмотрены физические процессы, протекающие в системе О₂–SiO₂–Si под действием некогерентного излучения в период окисления кремния методом быстрой термической обработки....

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors: Светличный, А.М., Агеев, О.А., Шляховой, Д.А.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2001
Series:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Subjects:
Технология производства
Online Access:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70875
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!

Internet

http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70875

Similar Items