Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре

На основании исследования переходных характеристик кремниевой p⁺pn⁺-структуры методом переключения из прямого направления на обратное определены зависимости времени жизни неосновных носителей заряда и времени восстановления обратного тока в кремниевых p⁺pn⁺- структурах с различной толщиной базовой о...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2011
Автори: Абдулхаев, О.А., Асанова, Г.О., Гиясова, Ф.А., Ёдгорова, Д.М., Каримов, А.А., Каримов, А.В.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2011
Назва видання:Физическая инженерия поверхности
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/76894
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре / О.А. Абдулхаев, Г.О. Асанова, Ф.А. Гиясова, Д.М. Ёдгорова, А.А. Каримов, А.В. Каримов // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 2. — С. 188–193. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-76894
record_format dspace
spelling irk-123456789-768942015-02-19T11:28:56Z Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре Абдулхаев, О.А. Асанова, Г.О. Гиясова, Ф.А. Ёдгорова, Д.М. Каримов, А.А. Каримов, А.В. На основании исследования переходных характеристик кремниевой p⁺pn⁺-структуры методом переключения из прямого направления на обратное определены зависимости времени жизни неосновных носителей заряда и времени восстановления обратного тока в кремниевых p⁺pn⁺- структурах с различной толщиной базовой области. Экспериментально показано, что как зависимости времени восстановления, так и времени жизни неосновных носителей от величины прямого тока стремятся к насыщению, которую можно объяснить наличием дополнительных рекомбинационных центров в базовой области. На підставі дослідження перехідних характеристик кремнієвої p⁺pn⁺-структури методом перемикання із прямого напрямку на зворотній визначені залежності часу життя неосновних носіїв заряду та часу відновлення зворотного струму в кремнієвих p⁺pn⁺-структурах з різною товщиною базової області. Експериментально показано, що як залежності часу відновлення, так і часу життя неосновних носіїв від величини прямого струму прагнуть до насичення, яку можна пояснити наявністю додаткових рекомбінаційних центрів у базовій області. Based on the research of transitional characteristics of silicon p⁺pn⁺-structure by method of switching from direct to reverse bias are obtained the dependences of the lifetime of minority carriers, and recovery time of the reverse current in silicon p⁺pn⁺-structures with different thickness of the base region. It is experimentally shown that the dependences of the recovery time as well as minority carriers lifetime from values of forward current tends to saturation, which can be explained by the presence of additional recombination centers in the base region. 2011 Article Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре / О.А. Абдулхаев, Г.О. Асанова, Ф.А. Гиясова, Д.М. Ёдгорова, А.А. Каримов, А.В. Каримов // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 2. — С. 188–193. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/76894 621.383.52:535.243 ru Физическая инженерия поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
description На основании исследования переходных характеристик кремниевой p⁺pn⁺-структуры методом переключения из прямого направления на обратное определены зависимости времени жизни неосновных носителей заряда и времени восстановления обратного тока в кремниевых p⁺pn⁺- структурах с различной толщиной базовой области. Экспериментально показано, что как зависимости времени восстановления, так и времени жизни неосновных носителей от величины прямого тока стремятся к насыщению, которую можно объяснить наличием дополнительных рекомбинационных центров в базовой области.
format Article
author Абдулхаев, О.А.
Асанова, Г.О.
Гиясова, Ф.А.
Ёдгорова, Д.М.
Каримов, А.А.
Каримов, А.В.
spellingShingle Абдулхаев, О.А.
Асанова, Г.О.
Гиясова, Ф.А.
Ёдгорова, Д.М.
Каримов, А.А.
Каримов, А.В.
Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре
Физическая инженерия поверхности
author_facet Абдулхаев, О.А.
Асанова, Г.О.
Гиясова, Ф.А.
Ёдгорова, Д.М.
Каримов, А.А.
Каримов, А.В.
author_sort Абдулхаев, О.А.
title Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре
title_short Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре
title_full Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре
title_fullStr Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре
title_full_unstemmed Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре
title_sort исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
publishDate 2011
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/76894
citation_txt Исследование переходных процессов в кремниевой p⁺pn⁺-структуре / О.А. Абдулхаев, Г.О. Асанова, Ф.А. Гиясова, Д.М. Ёдгорова, А.А. Каримов, А.В. Каримов // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 2. — С. 188–193. — Бібліогр.: 8 назв. — рос.
series Физическая инженерия поверхности
work_keys_str_mv AT abdulhaevoa issledovanieperehodnyhprocessovvkremnievojppnstrukture
AT asanovago issledovanieperehodnyhprocessovvkremnievojppnstrukture
AT giâsovafa issledovanieperehodnyhprocessovvkremnievojppnstrukture
AT ëdgorovadm issledovanieperehodnyhprocessovvkremnievojppnstrukture
AT karimovaa issledovanieperehodnyhprocessovvkremnievojppnstrukture
AT karimovav issledovanieperehodnyhprocessovvkremnievojppnstrukture
first_indexed 2023-10-18T19:12:43Z
last_indexed 2023-10-18T19:12:43Z
_version_ 1796146293555331072