Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки
В работе рассматривается влияние высокотемпературной обработки тонких (100 ÷ 500 нм) пленок оксида кремния на кремниевой подложке, полученных в вакууме методом электронно-лучевого испарения. Обнаружена структурная перестройка полученных тонких пленок SiOx и изменение их состава вплоть до SiO2 при вы...
Збережено в:
Дата: | 2011 |
---|---|
Автори: | , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2011
|
Назва видання: | Физическая инженерия поверхности |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/76937 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки / В.В. Литвиненко, В.Е. Родионов, Н.А. Родионова, И.Н. Шмидко // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 4. — С. 346–349. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |