ZnO:Al wide zone “windows” deposited by magnetron sputtering on unheated substrate
Electrical and optical properties of ZnO:Al films deposited on unheated glass substrate by non-reactive RF magnetron sputtering of target ZnO:Al₂O₃ (98/2 wt.%) were studied. It was shown that Zno:Al films with the thickness of 0.75 µm deposited at the magnetron power 130 W and 4 µbar argon pressure...
Збережено в:
| Видавець: | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
|---|---|
| Дата: | 2000 |
| Автори: | , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2000
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/78239 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Цитувати: | ZnO:Al wide zone “windows” deposited by magnetron sputtering on unheated substrate / B.Т. Boyko, G.S. Khrypunov, G.V. Yurchenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 5. — С. 91-93. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. |