Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы

Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы

Представлены результаты экспериментов по синтезу Ti-Si-N покрытий при их осаждении из многокомпонентной плазмы вакуумно-дугового разряда на подложки из нержавеющей стали и медной фольги. Полученные наноструктурные Ti-Si-N покрытия являются метастабильными пересыщенными твердыми растворами кремния в...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2008
Автори: Шулаев, В.М., Андреев, А.А., Столбовой, В.А., Прибытков, Г.А., Гурских, А.В., Коростелева, Е.Н., Коржова, В.В.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2008
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/7871
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы / В.М. Шулаев, А.А. Андреев, В.А. Столбовой, Г.А. Прибытков, А.В. Гурских, Е.Н. Коростелева, В.В. Коржова // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 1-2. — С. 105-113. — Бібліогр.: 14 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-7871
record_format dspace
spelling irk-123456789-78712010-04-21T12:01:57Z Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы Шулаев, В.М. Андреев, А.А. Столбовой, В.А. Прибытков, Г.А. Гурских, А.В. Коростелева, Е.Н. Коржова, В.В. Представлены результаты экспериментов по синтезу Ti-Si-N покрытий при их осаждении из многокомпонентной плазмы вакуумно-дугового разряда на подложки из нержавеющей стали и медной фольги. Полученные наноструктурные Ti-Si-N покрытия являются метастабильными пересыщенными твердыми растворами кремния в кубической фазе нитрида титана. Вакуумнодуговому испарению подвергались спеченные порошковые TiSi катоды. Материал двухфазного катода состоял из твердого раствора замещения кремния в титане α-Ti(Si) и силицида титана Ti5Si3. Обнаружено, что концентрация кремния в синтезируемых Ti-Si-N покрытиях и эмитируемых макрочастицах значительно ниже содержания кремния в TiSi катодах. Этот эффект связан с неоднородной эрозией катодным пятном вакуумной дуги материала катода. Интенсивная генерация плазменных струй и эмиссия макрочастиц происходят преимущественно на зернах α-Ti(Si) фазы. Представлені результати експериментів із синтезу Ti-Si-N покриттів при їх осадженні з багатокомпонентної плазми вакуумно-дугового розряду на підкладинку з нержавіючої сталі й мідної фольги. Отримані наноструктурні Tі-Sі-N покриття є метастабільними пересиченими твердими розчинами кремнію в кубічній фазі нітриду титану. Вакуумно-дуговому випаруванню піддавалися спечені порошкові TіSі катоди. Матеріал двох-фазового катода складався із твердого розчину заміщення кремнію в титані α-Tі(Sі) і силіциду титану Tі5Sі3. Виявлено, що концентрація крем-нію в синтезованих Ті-Sі-N покриттях і емітованих макрочастинках значно нижче змісту кремнію в TіSі катодах. Цей ефект пов’язаний з неоднорідною ерозією катодної плями вакуумної дуги матеріалу катода. Інтенсивна генерація плазмових струменів і емісія макрочасток відбуваються головним чином на зернах α-Tі(Sі) фази. Presented are results of experiments on synthesis Ti-Si-N coatings deposited from multi-component vacuum-arc plasma at substrates of stainless steel and copper foils. Obtained nano-structure Ti-Si-N films are meta-stable oversaturated solution of silicon within cubic phase of titanium nitride. The sintered powder TiSi cathodes were subjected to vacuum-arc evaporation. Two-phase cathode was consisted of Si substitution solution within titanium α-Ti(Si) and titanium silicide Ti5Si3. It has been found that silicon concentration within synthesized Ti-Si-N coatings and emitted macro-particles is significantly less than silicon concentration in TiSi cathodes. This effect is due to non-uniform erosion of cathode material with cathode spot of vacuum arc. The intensive generation of plasma streams and macro-particles emission occurs presumably on the α-Ti(Si) – phase grains. 2008 Article Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы / В.М. Шулаев, А.А. Андреев, В.А. Столбовой, Г.А. Прибытков, А.В. Гурских, Е.Н. Коростелева, В.В. Коржова // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 1-2. — С. 105-113. — Бібліогр.: 14 назв. — рос. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/7871 620.178.1: 539.533 ru Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
description Представлены результаты экспериментов по синтезу Ti-Si-N покрытий при их осаждении из многокомпонентной плазмы вакуумно-дугового разряда на подложки из нержавеющей стали и медной фольги. Полученные наноструктурные Ti-Si-N покрытия являются метастабильными пересыщенными твердыми растворами кремния в кубической фазе нитрида титана. Вакуумнодуговому испарению подвергались спеченные порошковые TiSi катоды. Материал двухфазного катода состоял из твердого раствора замещения кремния в титане α-Ti(Si) и силицида титана Ti5Si3. Обнаружено, что концентрация кремния в синтезируемых Ti-Si-N покрытиях и эмитируемых макрочастицах значительно ниже содержания кремния в TiSi катодах. Этот эффект связан с неоднородной эрозией катодным пятном вакуумной дуги материала катода. Интенсивная генерация плазменных струй и эмиссия макрочастиц происходят преимущественно на зернах α-Ti(Si) фазы.
format Article
author Шулаев, В.М.
Андреев, А.А.
Столбовой, В.А.
Прибытков, Г.А.
Гурских, А.В.
Коростелева, Е.Н.
Коржова, В.В.
spellingShingle Шулаев, В.М.
Андреев, А.А.
Столбовой, В.А.
Прибытков, Г.А.
Гурских, А.В.
Коростелева, Е.Н.
Коржова, В.В.
Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
author_facet Шулаев, В.М.
Андреев, А.А.
Столбовой, В.А.
Прибытков, Г.А.
Гурских, А.В.
Коростелева, Е.Н.
Коржова, В.В.
author_sort Шулаев, В.М.
title Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
title_short Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
title_full Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
title_fullStr Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
title_full_unstemmed Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
title_sort вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных ti-si-n покрытий из многокомпонентной плазмы
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
publishDate 2008
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/7871
citation_txt Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы / В.М. Шулаев, А.А. Андреев, В.А. Столбовой, Г.А. Прибытков, А.В. Гурских, Е.Н. Коростелева, В.В. Коржова // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 1-2. — С. 105-113. — Бібліогр.: 14 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT šulaevvm vakuumnodugovoeosaždenienanostrukturnyhtisinpokrytijizmnogokomponentnojplazmy
AT andreevaa vakuumnodugovoeosaždenienanostrukturnyhtisinpokrytijizmnogokomponentnojplazmy
AT stolbovojva vakuumnodugovoeosaždenienanostrukturnyhtisinpokrytijizmnogokomponentnojplazmy
AT pribytkovga vakuumnodugovoeosaždenienanostrukturnyhtisinpokrytijizmnogokomponentnojplazmy
AT gurskihav vakuumnodugovoeosaždenienanostrukturnyhtisinpokrytijizmnogokomponentnojplazmy
AT korostelevaen vakuumnodugovoeosaždenienanostrukturnyhtisinpokrytijizmnogokomponentnojplazmy
AT koržovavv vakuumnodugovoeosaždenienanostrukturnyhtisinpokrytijizmnogokomponentnojplazmy
first_indexed 2023-10-18T16:38:32Z
last_indexed 2023-10-18T16:38:32Z
_version_ 1796139511760027648

Схожі ресурси