The low energy ribbon ion beam source and transport system
The ribbon ion beam can be used in the commercial ion implanters in order to enlarge the beam current. The Bernas type ion source and periodical system of electrostatic lenses (electrostatic undulator) are proposed for high intensity ion implanter design. The ribbon ion source and transport system...
Збережено в:
| Дата: | 2006 |
|---|---|
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2006
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/78872 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | The low energy ribbon ion beam source and transport system / E.S. Masunov, S.M. Polozov, T.V. Kulevoy, V.I. Pershin // Вопросы атомной науки и техники. — 2006. — № 2. — С. 123-125. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |