Plasma density measurement of RF ion source

• Datum: 2005
• Hauptverfasser: Voznyy, V.I., Miroshnichenko, V.I., Mordyk, S.M., Nagornyy, A.G., Nagornyy, D.A., Storizhko, V.E., Shulha, D.P.
• Format: Artikel
• Sprache: English
• Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2005
• Schriftenreihe: Вопросы атомной науки и техники
• Schlagworte: Plasma diagnostics
• Online Zugang: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/79152
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Plasma density measurement of RF ion source / V.I. Voznyy, V.I. Miroshnichenko, S.M. Mordyk, A.G. Nagornyy, D.A. Nagornyy, V.E. Storizhko, D.P. Shulha // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 1. — С. 209-211. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

For a radiofrequency (27.12 MHz) inductively coupled ion source (3 cm diameter, 7 cm long, without external magnetic field, working gas-hydrogen, helium, argon), measurements of the average plasma density were made using an 8 mm microwave interferometer. The range of neutral gas pressure is 2-30 mTo...