Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition

The construction of planar ECR plasma source with multipolar magnetic field is described and the distribution of plasma parameters is measured. Plasma density and electron temperature at the distance 2,5 cm from the magnet surface achieve 5×10¹⁰ сm⁻³ and 22,5 eV accordingly and they linearly decreas...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2005
Автори: Fedorchenko, V.D., Byrka, O.V., Chebotarev, V.V., Garkusha, I.E., Tereshin, V.I.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2005
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/79155
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition / V.D. Fedorchenko, O.V. Byrka, V.V. Chebotarev, I.E. Garkusha, V.I. Tereshin // Вопросы атомной науки и техники. — 2005. — № 1. — С. 192-194. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine