Simulation of formation of an intensive electron beam in bipolar electron-optical system with the plasma anode
The algorithm of numerical simulation of electrons sources in base of the high-voltage glow discharge with the anode plasma, taking into account change of the form and the location of a surface of anode plasma, that renders essential influence on formation of an ion stream, which at hit on the cold...
Gespeichert in:
Datum: | 2002 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | English |
Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2002
|
Schriftenreihe: | Вопросы атомной науки и техники |
Schlagworte: | |
Online Zugang: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/79283 |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Zitieren: | Simulation of formation of an intensive electron beam in bipolar electron-optical system with the plasma anode / A.F. Stekolnikov, V.A. Gruzdev, O.N. Petrovich // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 5. — С. 113-114. — Бібліогр.: 2 назв. — англ. |