Simulation of formation of an intensive electron beam in bipolar electron-optical system with the plasma anode

The algorithm of numerical simulation of electrons sources in base of the high-voltage glow discharge with the anode plasma, taking into account change of the form and the location of a surface of anode plasma, that renders essential influence on formation of an ion stream, which at hit on the cold...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2002
Hauptverfasser: Stekolnikov, A.F., Gruzdev, V.A., Petrovich, O.N.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2002
Schriftenreihe:Вопросы атомной науки и техники
Schlagworte:
Online Zugang:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/79283
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Simulation of formation of an intensive electron beam in bipolar electron-optical system with the plasma anode / A.F. Stekolnikov, V.A. Gruzdev, O.N. Petrovich // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 5. — С. 113-114. — Бібліогр.: 2 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine