Efficiency of the nitriding process in glow discharge plasma

• Datum: 2011
• Hauptverfasser: Zhovtyansky, V.A., Nazarenko, V.G., Khomych, V.O., Ryabtsev, A.V., Anisimova, O.V., Nevzglyad, I.O., Shnyt, O.Ya.
• Format: Artikel
• Sprache: English
• Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2011
• Schriftenreihe: Вопросы атомной науки и техники
• Schlagworte: Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
• Online Zugang: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/90886
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Efficiency of the nitriding process in glow discharge plasma / V.А. Zhovtyansky, V.G. Nazarenko, V.O. Khomych, A.V. Ryabtsev, O.V. Anisimova, I.O. Nevzglyad, O.Ya. Shnyt // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 92-94. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

The problem of determination of the content of atomic nitrogen in glow discharge plasma in a nitrogen-argon mixture is considered. The discharge in this mixture is widely applied in the technologies of metal`s surfaces modification and the atomic nitrogen is responsible for the efficiency of this...