Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor
In the paper the level of high-current pulse discharge plasma influence on the chamber wall is carried out, that is important for position choosing of the nanolithographer first collecting mirror with gas-discharge radiation source. In the high-current pulse discharge in tin vapor the dynamic of w...
Збережено в:
Дата: | 2011 |
---|---|
Автори: | , , , , , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2011
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/90952 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor / A.F. Tseluyko, V.T. Lazurik, D.L. Ryabchikov, A. Hassanein, I.V. Borgun , I.N. Sereda, S.V. Borisko // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 143-145. — Бібліогр.: 2 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraineid |
irk-123456789-90952 |
---|---|
record_format |
dspace |
spelling |
irk-123456789-909522016-01-07T03:02:06Z Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor Tseluyko, A.F. Lazurik, V.T. Ryabchikov, D.L. Hassanein, A. Borgun, I.V. Sereda, I.N. Borisko, S.V. Низкотемпературная плазма и плазменные технологии In the paper the level of high-current pulse discharge plasma influence on the chamber wall is carried out, that is important for position choosing of the nanolithographer first collecting mirror with gas-discharge radiation source. In the high-current pulse discharge in tin vapor the dynamic of wall currents space distribution and power of wall effect were experimentally investigated. It has been shown, that the ring area in anode flat is undergone by main influence. It was detected the rapid decreasing of energetic wall effect at distance from discharge axis increasing from 8 to 12 cm. Досліджується рівень впливу плазми сильнострумового імпульсного розряду на стінку камери, що важливо для вибору місця розташування першого дзеркала нанолітографу, що збирає з газорозрядним джерелом випромінювання. В сильнострумовому імпульсному розряді в парах олова експериментально вивчена динаміка просторового розподілення пристінних струмів та потужності впливу на стінку. Показано, що найбільшому впливу підлягає кільцева область в площині аноду. Виявлено різкий спад енергетичного впливу на стінку при збільшені відстані від осі розряду з 8 до 12 см. Исследуется уровень воздействия плазмы сильноточного импульсного разряда на стенку камеры, что важно для выбора месторасположения первого собирающего зеркала нанолитографа с газоразрядным источником излучения. В сильноточном импульсном разряде в парах олова экспериментально изучена динамика пространственного распределения пристеночных токов и мощности воздействия на стенку. Показано, что наибольшему воздействию подвергается кольцевая область в плоскости анода. Обнаружено резкое спадение энергетического воздействия на стенку при увеличении расстояния от оси разряда с 8 до 12 см. 2011 Article Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor / A.F. Tseluyko, V.T. Lazurik, D.L. Ryabchikov, A. Hassanein, I.V. Borgun , I.N. Sereda, S.V. Borisko // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 143-145. — Бібліогр.: 2 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.75.-d; 52.59Mv http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/90952 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
collection |
DSpace DC |
language |
English |
topic |
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
spellingShingle |
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Tseluyko, A.F. Lazurik, V.T. Ryabchikov, D.L. Hassanein, A. Borgun, I.V. Sereda, I.N. Borisko, S.V. Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor Вопросы атомной науки и техники |
description |
In the paper the level of high-current pulse discharge plasma influence on the chamber wall is carried out, that is
important for position choosing of the nanolithographer first collecting mirror with gas-discharge radiation source. In
the high-current pulse discharge in tin vapor the dynamic of wall currents space distribution and power of wall effect
were experimentally investigated. It has been shown, that the ring area in anode flat is undergone by main influence. It
was detected the rapid decreasing of energetic wall effect at distance from discharge axis increasing from 8 to 12 cm. |
format |
Article |
author |
Tseluyko, A.F. Lazurik, V.T. Ryabchikov, D.L. Hassanein, A. Borgun, I.V. Sereda, I.N. Borisko, S.V. |
author_facet |
Tseluyko, A.F. Lazurik, V.T. Ryabchikov, D.L. Hassanein, A. Borgun, I.V. Sereda, I.N. Borisko, S.V. |
author_sort |
Tseluyko, A.F. |
title |
Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor |
title_short |
Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor |
title_full |
Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor |
title_fullStr |
Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor |
title_full_unstemmed |
Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor |
title_sort |
dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor |
publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
publishDate |
2011 |
topic_facet |
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/90952 |
citation_txt |
Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor / A.F. Tseluyko, V.T. Lazurik, D.L. Ryabchikov, A. Hassanein, I.V. Borgun , I.N. Sereda, S.V. Borisko // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 143-145. — Бібліогр.: 2 назв. — англ. |
series |
Вопросы атомной науки и техники |
work_keys_str_mv |
AT tseluykoaf dynamicofwallcurrentsinpulseplasmadiodeintinvapor AT lazurikvt dynamicofwallcurrentsinpulseplasmadiodeintinvapor AT ryabchikovdl dynamicofwallcurrentsinpulseplasmadiodeintinvapor AT hassaneina dynamicofwallcurrentsinpulseplasmadiodeintinvapor AT borguniv dynamicofwallcurrentsinpulseplasmadiodeintinvapor AT seredain dynamicofwallcurrentsinpulseplasmadiodeintinvapor AT boriskosv dynamicofwallcurrentsinpulseplasmadiodeintinvapor |
first_indexed |
2023-10-18T19:42:57Z |
last_indexed |
2023-10-18T19:42:57Z |
_version_ |
1796147719903903744 |