Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor

In the paper the level of high-current pulse discharge plasma influence on the chamber wall is carried out, that is important for position choosing of the nanolithographer first collecting mirror with gas-discharge radiation source. In the high-current pulse discharge in tin vapor the dynamic of w...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2011
Автори: Tseluyko, A.F., Lazurik, V.T., Ryabchikov, D.L., Hassanein, A., Borgun, I.V., Sereda, I.N., Borisko, S.V.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2011
Назва видання:Вопросы атомной науки и техники
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/90952
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor / A.F. Tseluyko, V.T. Lazurik, D.L. Ryabchikov, A. Hassanein, I.V. Borgun , I.N. Sereda, S.V. Borisko // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 143-145. — Бібліогр.: 2 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-90952
record_format dspace
spelling irk-123456789-909522016-01-07T03:02:06Z Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor Tseluyko, A.F. Lazurik, V.T. Ryabchikov, D.L. Hassanein, A. Borgun, I.V. Sereda, I.N. Borisko, S.V. Низкотемпературная плазма и плазменные технологии In the paper the level of high-current pulse discharge plasma influence on the chamber wall is carried out, that is important for position choosing of the nanolithographer first collecting mirror with gas-discharge radiation source. In the high-current pulse discharge in tin vapor the dynamic of wall currents space distribution and power of wall effect were experimentally investigated. It has been shown, that the ring area in anode flat is undergone by main influence. It was detected the rapid decreasing of energetic wall effect at distance from discharge axis increasing from 8 to 12 cm. Досліджується рівень впливу плазми сильнострумового імпульсного розряду на стінку камери, що важливо для вибору місця розташування першого дзеркала нанолітографу, що збирає з газорозрядним джерелом випромінювання. В сильнострумовому імпульсному розряді в парах олова експериментально вивчена динаміка просторового розподілення пристінних струмів та потужності впливу на стінку. Показано, що найбільшому впливу підлягає кільцева область в площині аноду. Виявлено різкий спад енергетичного впливу на стінку при збільшені відстані від осі розряду з 8 до 12 см. Исследуется уровень воздействия плазмы сильноточного импульсного разряда на стенку камеры, что важно для выбора месторасположения первого собирающего зеркала нанолитографа с газоразрядным источником излучения. В сильноточном импульсном разряде в парах олова экспериментально изучена динамика пространственного распределения пристеночных токов и мощности воздействия на стенку. Показано, что наибольшему воздействию подвергается кольцевая область в плоскости анода. Обнаружено резкое спадение энергетического воздействия на стенку при увеличении расстояния от оси разряда с 8 до 12 см. 2011 Article Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor / A.F. Tseluyko, V.T. Lazurik, D.L. Ryabchikov, A. Hassanein, I.V. Borgun , I.N. Sereda, S.V. Borisko // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 143-145. — Бібліогр.: 2 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.75.-d; 52.59Mv http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/90952 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
spellingShingle Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Tseluyko, A.F.
Lazurik, V.T.
Ryabchikov, D.L.
Hassanein, A.
Borgun, I.V.
Sereda, I.N.
Borisko, S.V.
Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor
Вопросы атомной науки и техники
description In the paper the level of high-current pulse discharge plasma influence on the chamber wall is carried out, that is important for position choosing of the nanolithographer first collecting mirror with gas-discharge radiation source. In the high-current pulse discharge in tin vapor the dynamic of wall currents space distribution and power of wall effect were experimentally investigated. It has been shown, that the ring area in anode flat is undergone by main influence. It was detected the rapid decreasing of energetic wall effect at distance from discharge axis increasing from 8 to 12 cm.
format Article
author Tseluyko, A.F.
Lazurik, V.T.
Ryabchikov, D.L.
Hassanein, A.
Borgun, I.V.
Sereda, I.N.
Borisko, S.V.
author_facet Tseluyko, A.F.
Lazurik, V.T.
Ryabchikov, D.L.
Hassanein, A.
Borgun, I.V.
Sereda, I.N.
Borisko, S.V.
author_sort Tseluyko, A.F.
title Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor
title_short Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor
title_full Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor
title_fullStr Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor
title_full_unstemmed Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor
title_sort dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2011
topic_facet Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/90952
citation_txt Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor / A.F. Tseluyko, V.T. Lazurik, D.L. Ryabchikov, A. Hassanein, I.V. Borgun , I.N. Sereda, S.V. Borisko // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 143-145. — Бібліогр.: 2 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT tseluykoaf dynamicofwallcurrentsinpulseplasmadiodeintinvapor
AT lazurikvt dynamicofwallcurrentsinpulseplasmadiodeintinvapor
AT ryabchikovdl dynamicofwallcurrentsinpulseplasmadiodeintinvapor
AT hassaneina dynamicofwallcurrentsinpulseplasmadiodeintinvapor
AT borguniv dynamicofwallcurrentsinpulseplasmadiodeintinvapor
AT seredain dynamicofwallcurrentsinpulseplasmadiodeintinvapor
AT boriskosv dynamicofwallcurrentsinpulseplasmadiodeintinvapor
first_indexed 2023-10-18T19:42:57Z
last_indexed 2023-10-18T19:42:57Z
_version_ 1796147719903903744