Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor

• Видавець: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
• Дата: 2011
• Автори: Tseluyko, A.F., Lazurik, V.T., Ryabchikov, D.L., Hassanein, A., Borgun, I.V., Sereda, I.N., Borisko, S.V.
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2011
• Назва видання: Вопросы атомной науки и техники
• Теми: Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/90952
• Цитувати: Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor / A.F. Tseluyko, V.T. Lazurik, D.L. Ryabchikov, A. Hassanein, I.V. Borgun , I.N. Sereda, S.V. Borisko // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 143-145. — Бібліогр.: 2 назв. — англ.

In the paper the level of high-current pulse discharge plasma influence on the chamber wall is carried out, that is important for position choosing of the nanolithographer first collecting mirror with gas-discharge radiation source. In the high-current pulse discharge in tin vapor the dynamic of w...