Высокочастотные разряды низкого давления в технологии малоэнергоемкого вакуумно-плазменного травления микроструктур

• Дата: 2004
• Автор: Фареник, В.И.
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2004
• Назва видання: Физическая инженерия поверхности
• Онлайн доступ: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98483
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Высокочастотные разряды низкого давления в технологии малоэнергоемкого вакуумно-плазменного травления микроструктур / В.И. Фареник // Физическая инженерия поверхности. — 2004. — Т. 2, № 1-2. — С. 117–145. — Бібліогр.: 85 назв. — рос.

В обзоре систематизированы основные результаты фундаментальных и прикладных исследований емкостного и индуктивного ВЧ разрядов, методы формирования интенсивных ионных потоков низкой энергии, полученные автором на протяжении 80-х – 90-х годов. Развита физическая концепция ВЧ разрядов низкого давления и ВЧ диодного эффекта в асимметричном плазменном конденсаторе. На ее основе разработана серия управляемых газоразрядных технологических системнизкой энергии для повторяемых операций в химически активных газовых средах. Диаметр вакуумных камер составляет 50-300 мм при энергии ионов от 50 до 500 эВ. Описаны различные типы экспериментально-технологических установок для плазменного, ионно-реактивного и ионно-лучевого травления при производстве микроэлектронных приборов, а также их технологическая реализация.