Экзоэлектронная эмиссия из алюминия после механических и термических воздействий
Изучена кинетика экзоэлектронной эмиссии из алюминия, подвергнутого механической обработке и окислению при повышенной температуре. Установлена корреляция между интенсивностью затухания эмиссионного тока и ростом оксидной пленки. Методы экзоэмиссии и контактной разности потенциалов рекомендуются для...
Збережено в:
| Видавець: | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
|---|---|
| Дата: | 2004 |
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2004
|
| Назва видання: | Физическая инженерия поверхности |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98495 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Цитувати: | Экзоэлектронная эмиссия из алюминия после механических и термических воздействий / А.М. Шкилько // Физическая инженерия поверхности. — 2004. — Т. 2, № 4. — С. 224–228. — Бібліогр.: 13 назв. — рос. |