Экзоэлектронная эмиссия из алюминия после механических и термических воздействий
Изучена кинетика экзоэлектронной эмиссии из алюминия, подвергнутого механической обработке и окислению при повышенной температуре. Установлена корреляция между интенсивностью затухания эмиссионного тока и ростом оксидной пленки. Методы экзоэмиссии и контактной разности потенциалов рекомендуются для...
Збережено в:
Дата: | 2004 |
---|---|
Автор: | |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2004
|
Назва видання: | Физическая инженерия поверхности |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98495 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Экзоэлектронная эмиссия из алюминия после механических и термических воздействий / А.М. Шкилько // Физическая инженерия поверхности. — 2004. — Т. 2, № 4. — С. 224–228. — Бібліогр.: 13 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineРезюме: | Изучена кинетика экзоэлектронной эмиссии из алюминия, подвергнутого механической обработке и окислению при повышенной температуре. Установлена корреляция между интенсивностью затухания эмиссионного тока и ростом оксидной пленки. Методы экзоэмиссии и
контактной разности потенциалов рекомендуются для исследования и диагностики физикохимического состояния твердотельных объектов после различных внешних воздействий. |
---|