Влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок
Пленки ТаВ₂ были синтезированы ВЧ магнетронным распылением мишени ТаВ₂ на стеклянные и ситалловые подложки. Исследовано влияние параметров распыления магнетронной распылительной системы на состав и толщину покрытий методами фотометрии и вторичной ионной масс-спектрометрии. Показано, что для по...
Збережено в:
| Дата: | 2005 |
|---|---|
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2005
|
| Назва видання: | Физическая инженерия поверхности |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98759 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок / В.В. Петухов, А.А. Гончаров, В.А. Коновалов, Д.Н.Терпий, В.А. Ступак // Физическая инженерия поверхности. — 2005. — Т. 3, № 3-4. — С. 241–244. — Бібліогр.: 13 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
irk-123456789-98759 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
irk-123456789-987592016-04-18T03:02:51Z Влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок Петухов, В.В. Гончаров, А.А. Коновалов, В.А. Терпий, Д.Н. Ступак, В.А. Пленки ТаВ₂ были синтезированы ВЧ магнетронным распылением мишени ТаВ₂ на стеклянные и ситалловые подложки. Исследовано влияние параметров распыления магнетронной распылительной системы на состав и толщину покрытий методами фотометрии и вторичной ионной масс-спектрометрии. Показано, что для получения стехиометрического состава и максимальной толщины необходимо предварительно определять величины оптимального давления рабочего газа, расстояния от мишени до подложки и затем размещать образцы в зоне равномерного распределения потока. Плівки TaB₂ були синтезовані ВЧ магнетронним розпиленням мішені ТаВ₂ на скляні та ситалові підкладинки. Досліджено вплив параметрів розпилення магнетронної розпилювальної системи на склад і товщину покрить методами фотометрії та вторинної іонної мас-спектрометрії. Показано, що для одержання стехиометричного складу й максимальної товщини необхідно попередньо визначати величини оптимального тиску робочого газу, відстані від мішені до підкладки і потім розміщати зразки в зоні рівномірного розподілу потоку. TaB₂ films were synthesised by hf magnetron spattering of the TaB₂ target onto glass and pyroceramic surface. The influence of spattering parameters of magnetron spattering system on the film composition and thickness was investigated by photo-metry and secondary mass-spectrometry methods. It was shown, that values of optimal working gas pressure, distances from the target to the substrate must be determined in advance as well as samples must be located in the flow uniform distribution zone in order to receive stoichiometric composition and top thickness. 2005 Article Влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок / В.В. Петухов, А.А. Гончаров, В.А. Коновалов, Д.Н.Терпий, В.А. Ступак // Физическая инженерия поверхности. — 2005. — Т. 3, № 3-4. — С. 241–244. — Бібліогр.: 13 назв. — рос. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98759 546.471.2.539.23 ru Физическая инженерия поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
Russian |
| description |
Пленки ТаВ₂ были синтезированы ВЧ магнетронным распылением мишени ТаВ₂ на стеклянные
и ситалловые подложки. Исследовано влияние параметров распыления магнетронной
распылительной системы на состав и толщину покрытий методами фотометрии и вторичной
ионной масс-спектрометрии. Показано, что для получения стехиометрического состава и максимальной толщины необходимо предварительно определять величины оптимального давления рабочего газа, расстояния от мишени до подложки и затем размещать образцы в зоне равномерного распределения потока. |
| format |
Article |
| author |
Петухов, В.В. Гончаров, А.А. Коновалов, В.А. Терпий, Д.Н. Ступак, В.А. |
| spellingShingle |
Петухов, В.В. Гончаров, А.А. Коновалов, В.А. Терпий, Д.Н. Ступак, В.А. Влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок Физическая инженерия поверхности |
| author_facet |
Петухов, В.В. Гончаров, А.А. Коновалов, В.А. Терпий, Д.Н. Ступак, В.А. |
| author_sort |
Петухов, В.В. |
| title |
Влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок |
| title_short |
Влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок |
| title_full |
Влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок |
| title_fullStr |
Влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок |
| title_full_unstemmed |
Влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок |
| title_sort |
влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок |
| publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| publishDate |
2005 |
| url |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98759 |
| citation_txt |
Влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок / В.В. Петухов, А.А. Гончаров, В.А. Коновалов, Д.Н.Терпий, В.А. Ступак // Физическая инженерия поверхности. — 2005. — Т. 3, № 3-4. — С. 241–244. — Бібліогр.: 13 назв. — рос. |
| series |
Физическая инженерия поверхности |
| work_keys_str_mv |
AT petuhovvv vliânierežimovraspyleniâigeometriiraspylitelʹnojsistemynatolŝinuisostavpolučaemyhplenok AT gončarovaa vliânierežimovraspyleniâigeometriiraspylitelʹnojsistemynatolŝinuisostavpolučaemyhplenok AT konovalovva vliânierežimovraspyleniâigeometriiraspylitelʹnojsistemynatolŝinuisostavpolučaemyhplenok AT terpijdn vliânierežimovraspyleniâigeometriiraspylitelʹnojsistemynatolŝinuisostavpolučaemyhplenok AT stupakva vliânierežimovraspyleniâigeometriiraspylitelʹnojsistemynatolŝinuisostavpolučaemyhplenok |
| first_indexed |
2023-10-18T20:00:27Z |
| last_indexed |
2023-10-18T20:00:27Z |
| _version_ |
1796148504863703040 |