Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering

The investigations of the reactive magnetron depositing of the stoichiometric coatings “metal-metalloid” were done. The dependences between sputtering parameters of a target and processes of plasmochemical formation on the surface of sample “metal-metalloid” and formations of coatings of the app...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Видавець:	Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Дата:	2012
Автори:	Sagalovych, A., Dudnik, S., Sagalovych, V.
Формат:	Стаття
Мова:	English
Опубліковано:	Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2012
Назва видання:	Физическая инженерия поверхности
Онлайн доступ:	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98970
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Цитувати:	Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering / A. Sagalovych, S. Dudnik, V. Sagalovych // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 3. — С. 263–272. — Бібліогр.: 23 назв. — англ.

Репозиторії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

id	irk-123456789-98970
record_format	dspace
spelling	irk-123456789-989702016-04-20T03:02:38Z Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering Sagalovych, A. Dudnik, S. Sagalovych, V. The investigations of the reactive magnetron depositing of the stoichiometric coatings “metal-metalloid” were done. The dependences between sputtering parameters of a target and processes of plasmochemical formation on the surface of sample “metal-metalloid” and formations of coatings of the appropriate structure were investigated. Experimental data on stoichiometric coatings AlN, Al₂O₃, TiN, TiO₂ is given. Features of reactive magnetron deposition and investigation results for obtaining of coatings with pregiven properties in particular for providing stability and controllability of coating deposition processes in time. Исследованы стехиометрические покрытия “металл-металлоид”, полученные реактивным магнетронным методом осаждения. Определены зависимости между параметрами распыления мишени и процессом плазмохимического осаждения на поверхность образца “металл-металлоид” при формировании покрытий соответствующей структуры. Приведены экспериментальные данные о стехиометрических покрытиях AlN, Al₂O₃, TiN, TiO₂. Определены особенности реактивного магнетронного напыления и получены результаты исследований относительно формирования покрытий с заранее заданными свойствами, в частности, для обеспечения устойчивости и управляемости процессов нанесения покрытий во времени. Досліджені стехіометричні покриття “метал-металоїд”, які отримані реактивним магнетронним методом осадження. Визначено залежності між параметрами розпилення мішені й процесом плазмохімічного осадження на поверхню зразка “метал-металоїд” при формуванні покриттів відповідної структури. Наведено експериментальні дані про стехіометричні покриття AlN, Al₂O₃, TiN, TiO₂. Визначено особливості реактивного магнетронного напилювання та отримані результати досліджень щодо формування покриттів із заздалегідь заданими властивостями, зокрема, для забезпечення стійкості й керованості процесів нанесення покриттів у часі. 2012 Article Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering / A. Sagalovych, S. Dudnik, V. Sagalovych // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 3. — С. 263–272. — Бібліогр.: 23 назв. — англ. 1999-8074 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98970 621.793 en Физическая инженерия поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
institution	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection	DSpace DC
language	English
description	The investigations of the reactive magnetron depositing of the stoichiometric coatings “metal-metalloid” were done. The dependences between sputtering parameters of a target and processes of plasmochemical formation on the surface of sample “metal-metalloid” and formations of coatings of the appropriate structure were investigated. Experimental data on stoichiometric coatings AlN, Al₂O₃, TiN, TiO₂ is given. Features of reactive magnetron deposition and investigation results for obtaining of coatings with pregiven properties in particular for providing stability and controllability of coating deposition processes in time.
format	Article
author	Sagalovych, A. Dudnik, S. Sagalovych, V.
spellingShingle	Sagalovych, A. Dudnik, S. Sagalovych, V. Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering Физическая инженерия поверхности
author_facet	Sagalovych, A. Dudnik, S. Sagalovych, V.
author_sort	Sagalovych, A.
title	Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
title_short	Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
title_full	Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
title_fullStr	Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
title_full_unstemmed	Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
title_sort	deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
publisher	Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
publishDate	2012
url	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98970
citation_txt	Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering / A. Sagalovych, S. Dudnik, V. Sagalovych // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 3. — С. 263–272. — Бібліогр.: 23 назв. — англ.
series	Физическая инженерия поверхности
work_keys_str_mv	AT sagalovycha depositionofthestoichiometriccoatingsbyreactivemagnetronsputtering AT dudniks depositionofthestoichiometriccoatingsbyreactivemagnetronsputtering AT sagalovychv depositionofthestoichiometriccoatingsbyreactivemagnetronsputtering
first_indexed	2023-10-18T20:00:54Z
last_indexed	2023-10-18T20:00:54Z
_version_	1796148525158891520

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering

Репозиторії

Схожі ресурси