Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
The investigations of the reactive magnetron depositing of the stoichiometric coatings “metal-metalloid” were done. The dependences between sputtering parameters of a target and processes of plasmochemical formation on the surface of sample “metal-metalloid” and formations of coatings of the app...
Збережено в:
Видавець: | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
---|---|
Дата: | 2012 |
Автори: | , , |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2012
|
Назва видання: | Физическая инженерия поверхности |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98970 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Цитувати: | Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering / A. Sagalovych, S. Dudnik, V. Sagalovych // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 3. — С. 263–272. — Бібліогр.: 23 назв. — англ. |