Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок
Представлены результаты исследований влияния на температуру подложки параметров высокочастотного разряда в плазмохимическом реакторе «Алмаз», разработанном и изготовленном в Институте ядерных исследований. Определено время выхода на равновесную температуру подложки при различных параметрах ВЧ-разряд...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Дата: | 2014 |
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Російська |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2014
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/100464 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок / В.В. Гладковский, Е.Г. Костин, Б.П. Полозов, О.А. Федорович, В.А. Петряков // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2014. — № 5-6. — С. 39-45. — Бібліогр.: 23 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862548011477893120 |
|---|---|
| author | Гладковский, В.В. Костин, Е.Г. Полозов, Б.П. Федорович, О.А. Петряков, В.А. |
| author_facet | Гладковский, В.В. Костин, Е.Г. Полозов, Б.П. Федорович, О.А. Петряков, В.А. |
| citation_txt | Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок / В.В. Гладковский, Е.Г. Костин, Б.П. Полозов, О.А. Федорович, В.А. Петряков // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2014. — № 5-6. — С. 39-45. — Бібліогр.: 23 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| description | Представлены результаты исследований влияния на температуру подложки параметров высокочастотного разряда в плазмохимическом реакторе «Алмаз», разработанном и изготовленном в Институте ядерных исследований. Определено время выхода на равновесную температуру подложки при различных параметрах ВЧ-разряда и параметрах основного нагревателя. Установлено, что в условиях данного исследования при температурах подложки выше 600°С влияние ВЧ-разряда на повышение ее температуры практически отсутствует.
Досліджено вплив на температуру підкладки параметрів ВЧ-розряду в плазмохімічному реакторі «Алмаз», розробленому і виготовленому в Інституті ядерних досліджень. Встановлено час виходу на рівноважне значення температури підкладки при різних параметрах ВЧ-розряду та параметрах основного нагрівача. Встановлено, що в умовах даного дослідження при температурах підкладки вище 600°С вплив ВЧ-розряду на підвищення її температури практично відсутній.
The paper presents the research results on the device for obtaining diamond-like films from gas phase, constructed and tested in the Institute for Nuclear Research of the National Academy of Sciences. From the obtained results, the authors determine the time period for establishing of equilibrium substrate temperature at different HF discharge and main heater parameters. HF discharges, in the conditions of this study, at substrate temperatures above 600°C have virtually no influence on the temperature rise of the substrate. In addition, a new heater is proposed in order to increase the attainable temperature and reduce the time for establishing the equilibrium substrate temperature.
|
| first_indexed | 2025-11-25T18:08:38Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-100464 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 2225-5818 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-11-25T18:08:38Z |
| publishDate | 2014 |
| publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Гладковский, В.В. Костин, Е.Г. Полозов, Б.П. Федорович, О.А. Петряков, В.А. 2016-05-22T11:43:12Z 2016-05-22T11:43:12Z 2014 Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок / В.В. Гладковский, Е.Г. Костин, Б.П. Полозов, О.А. Федорович, В.А. Петряков // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2014. — № 5-6. — С. 39-45. — Бібліогр.: 23 назв. — рос. 2225-5818 DOI: 10.15222/TKEA2014.5-6.39 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/100464 535.5 Представлены результаты исследований влияния на температуру подложки параметров высокочастотного разряда в плазмохимическом реакторе «Алмаз», разработанном и изготовленном в Институте ядерных исследований. Определено время выхода на равновесную температуру подложки при различных параметрах ВЧ-разряда и параметрах основного нагревателя. Установлено, что в условиях данного исследования при температурах подложки выше 600°С влияние ВЧ-разряда на повышение ее температуры практически отсутствует. Досліджено вплив на температуру підкладки параметрів ВЧ-розряду в плазмохімічному реакторі «Алмаз», розробленому і виготовленому в Інституті ядерних досліджень. Встановлено час виходу на рівноважне значення температури підкладки при різних параметрах ВЧ-розряду та параметрах основного нагрівача. Встановлено, що в умовах даного дослідження при температурах підкладки вище 600°С вплив ВЧ-розряду на підвищення її температури практично відсутній. The paper presents the research results on the device for obtaining diamond-like films from gas phase, constructed and tested in the Institute for Nuclear Research of the National Academy of Sciences. From the obtained results, the authors determine the time period for establishing of equilibrium substrate temperature at different HF discharge and main heater parameters. HF discharges, in the conditions of this study, at substrate temperatures above 600°C have virtually no influence on the temperature rise of the substrate. In addition, a new heater is proposed in order to increase the attainable temperature and reduce the time for establishing the equilibrium substrate temperature. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы и оборудование Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок Вплив параметрів вч-розряду і параметрів нагрівача на температуру підкладки в плазмохімічному реакторі «алмаз» для синтезу вуглецевих алмазоподібних плівок The influence of ÍF discharge parameters and heater settings on the substrate temperature in the plasma-chemical reactor «Almaz» for the synthesis of diamond-like carbon films Article published earlier |
| spellingShingle | Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок Гладковский, В.В. Костин, Е.Г. Полозов, Б.П. Федорович, О.А. Петряков, В.А. Технологические процессы и оборудование |
| title | Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок |
| title_alt | Вплив параметрів вч-розряду і параметрів нагрівача на температуру підкладки в плазмохімічному реакторі «алмаз» для синтезу вуглецевих алмазоподібних плівок The influence of ÍF discharge parameters and heater settings on the substrate temperature in the plasma-chemical reactor «Almaz» for the synthesis of diamond-like carbon films |
| title_full | Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок |
| title_fullStr | Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок |
| title_full_unstemmed | Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок |
| title_short | Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок |
| title_sort | влияние параметров вч-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок |
| topic | Технологические процессы и оборудование |
| topic_facet | Технологические процессы и оборудование |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/100464 |
| work_keys_str_mv | AT gladkovskiivv vliânieparametrovvčrazrâdaiparametrovnagrevatelânatemperaturupodložkivplazmohimičeskomreaktorealmazdlâsintezauglerodnyhalmazopodobnyhplenok AT kostineg vliânieparametrovvčrazrâdaiparametrovnagrevatelânatemperaturupodložkivplazmohimičeskomreaktorealmazdlâsintezauglerodnyhalmazopodobnyhplenok AT polozovbp vliânieparametrovvčrazrâdaiparametrovnagrevatelânatemperaturupodložkivplazmohimičeskomreaktorealmazdlâsintezauglerodnyhalmazopodobnyhplenok AT fedorovičoa vliânieparametrovvčrazrâdaiparametrovnagrevatelânatemperaturupodložkivplazmohimičeskomreaktorealmazdlâsintezauglerodnyhalmazopodobnyhplenok AT petrâkovva vliânieparametrovvčrazrâdaiparametrovnagrevatelânatemperaturupodložkivplazmohimičeskomreaktorealmazdlâsintezauglerodnyhalmazopodobnyhplenok AT gladkovskiivv vplivparametrívvčrozrâduíparametrívnagrívačanatemperaturupídkladkivplazmohímíčnomureaktoríalmazdlâsintezuvuglecevihalmazopodíbnihplívok AT kostineg vplivparametrívvčrozrâduíparametrívnagrívačanatemperaturupídkladkivplazmohímíčnomureaktoríalmazdlâsintezuvuglecevihalmazopodíbnihplívok AT polozovbp vplivparametrívvčrozrâduíparametrívnagrívačanatemperaturupídkladkivplazmohímíčnomureaktoríalmazdlâsintezuvuglecevihalmazopodíbnihplívok AT fedorovičoa vplivparametrívvčrozrâduíparametrívnagrívačanatemperaturupídkladkivplazmohímíčnomureaktoríalmazdlâsintezuvuglecevihalmazopodíbnihplívok AT petrâkovva vplivparametrívvčrozrâduíparametrívnagrívačanatemperaturupídkladkivplazmohímíčnomureaktoríalmazdlâsintezuvuglecevihalmazopodíbnihplívok AT gladkovskiivv theinfluenceofifdischargeparametersandheatersettingsonthesubstratetemperatureintheplasmachemicalreactoralmazforthesynthesisofdiamondlikecarbonfilms AT kostineg theinfluenceofifdischargeparametersandheatersettingsonthesubstratetemperatureintheplasmachemicalreactoralmazforthesynthesisofdiamondlikecarbonfilms AT polozovbp theinfluenceofifdischargeparametersandheatersettingsonthesubstratetemperatureintheplasmachemicalreactoralmazforthesynthesisofdiamondlikecarbonfilms AT fedorovičoa theinfluenceofifdischargeparametersandheatersettingsonthesubstratetemperatureintheplasmachemicalreactoralmazforthesynthesisofdiamondlikecarbonfilms AT petrâkovva theinfluenceofifdischargeparametersandheatersettingsonthesubstratetemperatureintheplasmachemicalreactoralmazforthesynthesisofdiamondlikecarbonfilms |