Кинетика диспергирования—коагуляции при отжиге металлических наноплёнок, нанесённых на поверхность неметаллических материалов

Исследована кинетика процессов диспергирования—коагулирования наноплёнок различных металлов (Ag, Au, Cu, Nb, Hf) толщиной 100 нм, нанесённых на оксидные и неоксидные подложки и отожжённых в широком диапазоне температур от 600 до 1600°C. Предложено объяснение механизма распада металлических наноплёно...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Металлофизика и новейшие технологии
Дата:2014
Автори: Найдич, Ю.В., Габ, И.И., Стецюк, Т.В., Костюк, Б.Д.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2014
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/106935
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Кинетика диспергирования—коагуляции при отжиге металлических наноплёнок, нанесённых на поверхность неметаллических материалов / Ю.В. Найдич, И.И. Габ, Т.В. Стецюк, Б.Д. Костюк // Металлофизика и новейшие технологии. — 2014. — Т. 36, № 4. — С. 519-530. — Бібліогр.: 19 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:Исследована кинетика процессов диспергирования—коагулирования наноплёнок различных металлов (Ag, Au, Cu, Nb, Hf) толщиной 100 нм, нанесённых на оксидные и неоксидные подложки и отожжённых в широком диапазоне температур от 600 до 1600°C. Предложено объяснение механизма распада металлических наноплёнок с учётом процессов, происходящих на межфазной границе плёнка—твердофазная основа. Досліджено кінетику процесів дисперґування—коаґулювання наноплівок різних металів (Ag, Au, Cu, Nb, Hf) завтовшки у 100 нм, яких нанесено на оксидні та неоксидні підложжя та відпалено в широкому діапазоні температур від 600 до 1600°C. Запропоновано пояснення механізму розпаду металевих наноплівок з урахуванням процесів, які відбуваються на міжфазній межі плівка—твердофазна основа. Kinetics of dispergation—coagulation processes of various metal (Ag, Au, Cu, Nb, Hf) nanofilms of 100 nm thickness, which are deposited onto oxide and nonoxide substrates and are annealed in a wide range of temperatures from 600 up to 1600°C, is investigated. The explanation of metal-nanofilm decomposition mechanism with regard to the processes occurring in film—solid base interphase boundary is proposed.
ISSN:1024-1809