Низкотемпературное магнетронное осаждение наноструктурных пленок Ni–C: синтез, структура и магнитные свойства

• Veröffentlicht in: Физика и техника высоких давлений
• Datum: 2015
• Hauptverfasser: Прудников, А.М., Линник, А.И., Шалаев, Р.В., Пашкевич, Ю.Г., Варюхин, В.Н., Мохненко, М.И., Костыря, С.А., Линник, Т.А.
• Format: Artikel
• Sprache: Russisch
• Veröffentlicht: Донецький фізико-технічний інститут ім. О.О. Галкіна НАН України 2015
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/107403
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Низкотемпературное магнетронное осаждение наноструктурных пленок Ni–C: синтез, структура и магнитные свойства / А.М. Прудников, А.И. Линник, Р.В. Шалаев, Ю.Г. Пашкевич, В.Н. Варюхин, М.И. Мохненко, С.А. Костыря, Т.А. Линник // Физика и техника высоких давлений. — 2015. — Т. 25, № 3-4. — С. 102-111. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.

С помощью магнетронного распыления композитной Ni–C-мишени были выращены три группы пленок с отношением C/Ni (vol.%) = 30/70; 40/60; 60/40. Методом атомной силовой микроскопии (AFM) установлен кластерный характер осаждения пленок на поверхность подложки. Рентгеноструктурный анализ трех групп пленок...