Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів

• Veröffentlicht in: Физическая инженерия поверхности
• Datum: 2014
• Hauptverfasser: Яковін, С.Д., Зиков, О.В., Дудін, С.В., Фаренік, В.І., Юнаков, М.М.
• Format: Artikel
• Sprache: Ukrainian
• Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2014
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108484
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Іонно-плазмова система для реактивного магнетронного нанесення покриттів / С.Д. Яковін, О.В. Зиков, С.В. Дудін, В.І. Фаренік, М.М. Юнаков // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 3. — С. 428-439. — Бібліогр.: 15 назв. — укр.

В роботі представлено результати розробки та дослідження багатофункціональної іонно-плазмової технологічної системи, до складу якої входять наступні компліментарні плазмові модулі: два незбалансованих магнетрони низького тиску; джерело плазми та активованих частинок на базі ВЧ індукційного розряду;...