Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы

Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы

Исследованы структура и фазовый состав катодных материалов системы Ti-Si, полученных спеканием смесей порошков титана, кремния и силицида титана Ti₅Si₃. Установлено, что спекание смесей Ti + Ti₅Si₃ позволяет получать качественные катодные материалы с содержанием кремния до 15 ат. %. Обнаружено, что...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Date:2015
Main Authors: Васильев, В.В., Лучанинов, А.А., Решетняк, Е.Н., Стрельницкий, В.Е., Толмачева, Г.Н., Прибытков, Г.А., Гурских, А.В., Криницын, М.Г.
Format: Article
Language:Russian
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2015
Series:Физическая инженерия поверхности
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108712
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы / В.В. Васильев, А.А. Лучанинов, Е.Н. Решетняк, В.Е. Стрельницкий, Г.Н. Толмачева, Г.А. Прибытков, А.В. Гурских, М.Г. Криницын // Физическая инженерия поверхности. — 2015. — Т. 13, № 2. — С. 148-163. — Бібліогр.: 34 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-108712
record_format dspace
fulltext
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
description Исследованы структура и фазовый состав катодных материалов системы Ti-Si, полученных спеканием смесей порошков титана, кремния и силицида титана Ti₅Si₃. Установлено, что спекание смесей Ti + Ti₅Si₃ позволяет получать качественные катодные материалы с содержанием кремния до 15 ат. %. Обнаружено, что в штатном режиме работы источника фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы возникают проблемы со стабильностью горения разряда, обусловленные возникновением дефектов на поверхности порошковых катодов. Использован способ подачи реакционного газа в вакуумную камеру через источник плазмы, что позволило добиться стабильной работы порошковых катодов при осаждении покрытий нитридов. В условиях использования высоковольтного импульсного потенциала смещения на подложку получены покрытия системы Ti-Si-N. Исследовано влияние параметров осаждения на состав, структуру и свойства покрытий. Определены условия, позволяющие синтезировать наноструктурные покрытия с высокой твердостью.
format Article
author Васильев, В.В.
Лучанинов, А.А.
Решетняк, Е.Н.
Стрельницкий, В.Е.
Толмачева, Г.Н.
Прибытков, Г.А.
Гурских, А.В.
Криницын, М.Г.
spellingShingle Васильев, В.В.
Лучанинов, А.А.
Решетняк, Е.Н.
Стрельницкий, В.Е.
Толмачева, Г.Н.
Прибытков, Г.А.
Гурских, А.В.
Криницын, М.Г.
Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы
Физическая инженерия поверхности
author_facet Васильев, В.В.
Лучанинов, А.А.
Решетняк, Е.Н.
Стрельницкий, В.Е.
Толмачева, Г.Н.
Прибытков, Г.А.
Гурских, А.В.
Криницын, М.Г.
author_sort Васильев, В.В.
title Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы
title_short Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы
title_full Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы
title_fullStr Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы
title_full_unstemmed Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы
title_sort применение порошковых катодов для осаждения ti-si-n покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
publishDate 2015
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108712
citation_txt Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы / В.В. Васильев, А.А. Лучанинов, Е.Н. Решетняк, В.Е. Стрельницкий, Г.Н. Толмачева, Г.А. Прибытков, А.В. Гурских, М.Г. Криницын // Физическая инженерия поверхности. — 2015. — Т. 13, № 2. — С. 148-163. — Бібліогр.: 34 назв. — рос.
series Физическая инженерия поверхности
work_keys_str_mv AT vasilʹevvv primenenieporoškovyhkatodovdlâosaždeniâtisinpokrytijizfilʹtrovannojvakuumnodugovojplazmy
AT lučaninovaa primenenieporoškovyhkatodovdlâosaždeniâtisinpokrytijizfilʹtrovannojvakuumnodugovojplazmy
AT rešetnâken primenenieporoškovyhkatodovdlâosaždeniâtisinpokrytijizfilʹtrovannojvakuumnodugovojplazmy
AT strelʹnickijve primenenieporoškovyhkatodovdlâosaždeniâtisinpokrytijizfilʹtrovannojvakuumnodugovojplazmy
AT tolmačevagn primenenieporoškovyhkatodovdlâosaždeniâtisinpokrytijizfilʹtrovannojvakuumnodugovojplazmy
AT pribytkovga primenenieporoškovyhkatodovdlâosaždeniâtisinpokrytijizfilʹtrovannojvakuumnodugovojplazmy
AT gurskihav primenenieporoškovyhkatodovdlâosaždeniâtisinpokrytijizfilʹtrovannojvakuumnodugovojplazmy
AT krinicynmg primenenieporoškovyhkatodovdlâosaždeniâtisinpokrytijizfilʹtrovannojvakuumnodugovojplazmy
AT vasilʹevvv zastosuvannâporoškovihkatodívdlâosadžennâpokrittívtisinízfílʹtrovanoívakuumnodugovoíplazmi
AT lučaninovaa zastosuvannâporoškovihkatodívdlâosadžennâpokrittívtisinízfílʹtrovanoívakuumnodugovoíplazmi
AT rešetnâken zastosuvannâporoškovihkatodívdlâosadžennâpokrittívtisinízfílʹtrovanoívakuumnodugovoíplazmi
AT strelʹnickijve zastosuvannâporoškovihkatodívdlâosadžennâpokrittívtisinízfílʹtrovanoívakuumnodugovoíplazmi
AT tolmačevagn zastosuvannâporoškovihkatodívdlâosadžennâpokrittívtisinízfílʹtrovanoívakuumnodugovoíplazmi
AT pribytkovga zastosuvannâporoškovihkatodívdlâosadžennâpokrittívtisinízfílʹtrovanoívakuumnodugovoíplazmi
AT gurskihav zastosuvannâporoškovihkatodívdlâosadžennâpokrittívtisinízfílʹtrovanoívakuumnodugovoíplazmi
AT krinicynmg zastosuvannâporoškovihkatodívdlâosadžennâpokrittívtisinízfílʹtrovanoívakuumnodugovoíplazmi
AT vasilʹevvv applicationofpowdercathodesfortisincoatingsdepositionfromthefilteredvacuumarcplasma
AT lučaninovaa applicationofpowdercathodesfortisincoatingsdepositionfromthefilteredvacuumarcplasma
AT rešetnâken applicationofpowdercathodesfortisincoatingsdepositionfromthefilteredvacuumarcplasma
AT strelʹnickijve applicationofpowdercathodesfortisincoatingsdepositionfromthefilteredvacuumarcplasma
AT tolmačevagn applicationofpowdercathodesfortisincoatingsdepositionfromthefilteredvacuumarcplasma
AT pribytkovga applicationofpowdercathodesfortisincoatingsdepositionfromthefilteredvacuumarcplasma
AT gurskihav applicationofpowdercathodesfortisincoatingsdepositionfromthefilteredvacuumarcplasma
AT krinicynmg applicationofpowdercathodesfortisincoatingsdepositionfromthefilteredvacuumarcplasma
first_indexed 2025-11-24T15:14:58Z
last_indexed 2025-11-24T15:14:58Z
_version_ 1849685230907031552
spelling nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-1087122025-02-23T19:16:37Z Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы Застосування порошкових катодів для осадження покриттів Ti-Si-N Із фільтрованої вакуумно-дугової плазми Application of powder cathodes for Ti-Si-N coatings deposition from the filtered vacuum-arc plasma Васильев, В.В. Лучанинов, А.А. Решетняк, Е.Н. Стрельницкий, В.Е. Толмачева, Г.Н. Прибытков, Г.А. Гурских, А.В. Криницын, М.Г. Исследованы структура и фазовый состав катодных материалов системы Ti-Si, полученных спеканием смесей порошков титана, кремния и силицида титана Ti₅Si₃. Установлено, что спекание смесей Ti + Ti₅Si₃ позволяет получать качественные катодные материалы с содержанием кремния до 15 ат. %. Обнаружено, что в штатном режиме работы источника фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы возникают проблемы со стабильностью горения разряда, обусловленные возникновением дефектов на поверхности порошковых катодов. Использован способ подачи реакционного газа в вакуумную камеру через источник плазмы, что позволило добиться стабильной работы порошковых катодов при осаждении покрытий нитридов. В условиях использования высоковольтного импульсного потенциала смещения на подложку получены покрытия системы Ti-Si-N. Исследовано влияние параметров осаждения на состав, структуру и свойства покрытий. Определены условия, позволяющие синтезировать наноструктурные покрытия с высокой твердостью. Досліджено структуру та фазовий склад катодних матеріалів системи Ti-Si, отриманих спіканням сумішей порошків титану, кремнію і силіциду титану Ti₅Si₃. Встановлено, що спікання порошкових сумішей Ti + Ti₅Si₃ дозволяє отримувати якісні катодні матеріали з вмістом кремнію до 15 ат. %. Виявлено, що в штатному режимі роботи джерела фільтрованої вакуумно-дугової плазми виникають проблеми зі стабільністю горіння розряду, обумовлені виникненням дефектів на поверхні порошкових катодів. Застосовано спосіб подачі реакційного газу в вакуумну камеру через джерело плазми, що дозволило досягти стабільної роботи порошкових катодів при осадженні покриттів нітридів. В умовах використання високовольтного імпульсного потенціалу зміщення на підкладку отримані покриття системи Ti-Si-N. Досліджено вплив параметрів осадження на склад, структуру та властивості покриттів. Визначено умови, що дозволяють синтезувати наноструктурні покриття з високою твердістю. The structure and phase composition of cathode materials of Ti-Si composition, fabricated by sintering a mixture of powders of titanium, silicon, and titanium silicide Ti₅Si₃ were investigated. It was found that sintering mixtures of Ti + Ti₅Si₃ allows fabricate high-quality materials with silicon content up to 15 at. % which are sutable for use in the vacuum-arc plasma sources as cathode materials. It was found that in normal mode of the filtered cathodic arc plasma source operation the problems with the stability of the discharge occur, due to the appearance of defects on the surface of the sintered powder Ti-Si cathode. A method of feeding a reaction gas into a vacuum chamber through a plasma source was used that will ensure the stable cathodic arc plasma source operation with the Ti-Si cathodes at the deposition of nitride coatings. The coatings of the Ti-Si-N system were obtained under the conditions of use of high voltage pulsed substrate bias potential. The influence of the process deposition parameters on the composition, structure and properties of the coatings investigated. The conditions were determined which allow synthesize nanostructured coatings with high hardness. Работа выполнена при финансовой поддержке РФФИ (проект 14-08-90403) и НАН Украины (проект 24-08-14). 2015 Article Применение порошковых катодов для осаждения Ti-Si-N покрытий из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы / В.В. Васильев, А.А. Лучанинов, Е.Н. Решетняк, В.Е. Стрельницкий, Г.Н. Толмачева, Г.А. Прибытков, А.В. Гурских, М.Г. Криницын // Физическая инженерия поверхности. — 2015. — Т. 13, № 2. — С. 148-163. — Бібліогр.: 34 назв. — рос. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/108712 539.21: 621.793 ru Физическая инженерия поверхности application/pdf Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України

Similar Items