Klenko, Y., & Píchal, J. (2008). Deposition of TiO₂ thin films using atmospheric dielectric barrier discharge. Вопросы атомной науки и техники.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Klenko, Y., та J. Píchal. "Deposition of TiO₂ Thin Films Using Atmospheric Dielectric Barrier Discharge." Вопросы атомной науки и техники 2008.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Klenko, Y., та J. Píchal. "Deposition of TiO₂ Thin Films Using Atmospheric Dielectric Barrier Discharge." Вопросы атомной науки и техники, 2008.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.