Deposition of TiO₂ thin films using atmospheric dielectric barrier discharge
In this paper the influence of precursor (titanium tetraisopropoxide (TTIP)) temperature, precursor and gas flow rates on the surface properties of TiO₂ thin films deposited by atmospheric dielectric barrier discharge (ADBD) chemical vapour deposition (CVD) were investigated. Argon was used as worki...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2008 |
| Автори: | , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2008
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110976 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Deposition of TiO₂ thin films using atmospheric dielectric barrier discharge / Y. Klenko, J. Píchal // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 177-179. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Application of atmospheric dielectric barrier discharge plasma for polyethylene powder modification
за авторством: Píchal, J., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Píchal, J., та інші
Опубліковано: (2006)
Atmospheric DBD discharge modification of polyester fabric
за авторством: Klenko, Y., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Klenko, Y., та інші
Опубліковано: (2006)
Relationship between photocatalytic activity, hydrophilicity and photoelectric properties of TiO₂ thin films
за авторством: Kolouch, A., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Kolouch, A., та інші
Опубліковано: (2006)
Influence of dielectric barrier discharge on beet seeds germination
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2023)
Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Famakinwa, T., та інші
Опубліковано: (2000)
Ozone generator based on surface dielectric barrier discharge with pulse power supply
за авторством: Lozina, A.S., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Lozina, A.S., та інші
Опубліковано: (2023)
Application of dielectric barrier discharge and plasma-chemical reactor for water purification from NH₄OH
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)
Investigation of thin films deposition into porous material
за авторством: Sedláková, L., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Sedláková, L., та інші
Опубліковано: (2006)
Production of metal and dielectric films in a combined RF and arc discharge
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)
Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
Pulse discharge in the dielectric cell: simulation via PIC method
за авторством: Kelnyk, O.I., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Kelnyk, O.I., та інші
Опубліковано: (2007)
PES fabric modification with a corona discharge
за авторством: Pichal, J., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Pichal, J., та інші
Опубліковано: (2005)
Kinetics of processes in air plasma discharges at atmospheric pressure in the transverse flow of gas
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2019)
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)
The influence of nitrogen admixture on concentration of an electronic–excited helium atoms in atmospheric pressure glow discharge
за авторством: Arkhipenko, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Arkhipenko, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
Stability of thin quasi-crystalline Ti-Zr-Ni films and related crystalline phases under low-energy transient plasma irradiation
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2022)
Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)
Dc glow discharge for synthesis diamond films with high growth rate
за авторством: Gritsyna, V.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Gritsyna, V.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)
Experimental and numerical studies of pressure and gap length effects on energy deposition in spark discharge
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2021)
Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
Plasma deposited diamond-like carbon films for large neural arrays
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)
Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Effect of deposition parameters on microstructure and tribological properties of hard CA-PVD multi-component TiAlCrN and TiAlCrCN coatings
за авторством: Misiruk, I.O., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Misiruk, I.O., та інші
Опубліковано: (2020)
Performance of thermal barrier coatings produced by smart plasma processing
за авторством: Kobayashi, Akira
Опубліковано: (2006)
за авторством: Kobayashi, Akira
Опубліковано: (2006)
Stady of the characteristics of barrier flat ozonizer with the use of pulse supply
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)
Investigation of plate-type barrier ozonizers with ac and pulse power supplies
за авторством: Krasnji, V.V., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Krasnji, V.V., та інші
Опубліковано: (2002)
Dissipative structure in the glow discharge
за авторством: Ponomaryov, O.P., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Ponomaryov, O.P., та інші
Опубліковано: (2008)
Investigation of characteristics of non-simultaneous arc discharge in titanium vapors in glow discharge electron evaporators
за авторством: Denbnovetskiy, S.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Denbnovetskiy, S.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Axial coil accelerator of plasma ring in the atmospheric pressure air
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2019)
Dusty discharges with secondary electron emission
за авторством: Chutov, Yu. I., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Chutov, Yu. I., та інші
Опубліковано: (2002)
Corona discharge influence on micro-organisms
за авторством: Scholtz, V.
Опубліковано: (2005)
за авторством: Scholtz, V.
Опубліковано: (2005)
Microwave discharge as a source of light
за авторством: Brodsky, Yu.Ya., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Brodsky, Yu.Ya., та інші
Опубліковано: (2005)
On the contraction of an arc discharge in gaseous mixtures
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2005)
за авторством: Porytskyy, P.V.
Опубліковано: (2005)
Influence of cold atmospheric plasma of microdischarge on fungal mycelium and spores growing
за авторством: Veremii, Yu., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Veremii, Yu., та інші
Опубліковано: (2019)
Generation of silver nanoparticles in a plasma-liquid system with a secondary discharge supported by a rotating gliding discharge
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2019)
Nanotube formation on catalytic surface in plasma discharge
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
RF discharge in argon with cylindrical dust particles
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Chutov, Yu.I., та інші
Опубліковано: (2005)