Deposition of TiO₂ thin films using atmospheric dielectric barrier discharge

• Published in: Вопросы атомной науки и техники
• Date: 2008
• Main Authors: Klenko, Y., Píchal, J.
• Format: Article
• Language: English
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2008
• Subjects: Low temperature plasma and plasma technologies
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/110976
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Deposition of TiO₂ thin films using atmospheric dielectric barrier discharge / Y. Klenko, J. Píchal // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 177-179. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

In this paper the influence of precursor (titanium tetraisopropoxide (TTIP)) temperature, precursor and gas flow rates on the surface properties of TiO₂ thin films deposited by atmospheric dielectric barrier discharge (ADBD) chemical vapour deposition (CVD) were investigated. Argon was used as worki...