Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
The plasma parameters and its homogeneity were measured in ECR planar plasma source with multipolar magnetic field, which is created by three parallel magnetic bars of 12 cm in length consisted of set of the permanent magnets of 2 cm length. Geometry of the multipolar magnetic field is able to be ch...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2008 |
| Hauptverfasser: | , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2008
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111033 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Influence of multipolar magnetic field geometry of ecr planar plasma source on plasma parameters / V.D. Fedorchenko, V.V. Chebotarev, I.E. Garkusha, A.V. Medvedev, V.I. Tereshin, B.A. Shevchuk // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 201-203. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862624258341994496 |
|---|---|
| author | Fedorchenko, V.D. Chebotarev, V.V. Garkusha, I.E. Medvedev, A.V. Tereshin, V.I. Shevchuk, B.A. |
| author_facet | Fedorchenko, V.D. Chebotarev, V.V. Garkusha, I.E. Medvedev, A.V. Tereshin, V.I. Shevchuk, B.A. |
| citation_txt | Influence of multipolar magnetic field geometry of ecr planar plasma source on plasma parameters / V.D. Fedorchenko, V.V. Chebotarev, I.E. Garkusha, A.V. Medvedev, V.I. Tereshin, B.A. Shevchuk // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 201-203. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | The plasma parameters and its homogeneity were measured in ECR planar plasma source with multipolar magnetic field, which is created by three parallel magnetic bars of 12 cm in length consisted of set of the permanent magnets of 2 cm length. Geometry of the multipolar magnetic field is able to be changed by variation of the polarity and the distance between separate magnets along the bars. For magnetic system with alternative orientation of the magnetic field the plasma density up to 2.8×10¹⁰ сm¯³ and the electron temperature about 20-22 eV were measured within the area ~ 75 cm² at the distance of 2 cm apart the magnetic structure. The uncompensated ion flow with the energies of 16-18 eV was observed for all configurations of magnetic field.
Параметри плазми та її однорідність були виміряні у планарному ЕЦР-плазмовому джерелі із мультипольним магнітним полем, яке утворювалося паралельними магнітними стрижнями довжиною 12 см, що складались з окремих постійних магнітів по 2 см кожний. Геометрія мультипольного магнітного поля змінювалася за рахунок варіювання полярності окремих магнітів та відстані між ними вздовж стрижня. Для магнітної системи з перемінною орієнтацією магнітного поля магнітів вздовж стрижня та с зазором 0,8 см між ними густина плазми складала 2.8×10¹⁰ сm¯³ та електронна температура 20-22 еВ. Показана однорідність параметрів плазми на площині ~ 75 cm² на відстані 2 см від магнітної структури. Для усіх конфігурацій магнітного поля спостерігався некомпенсований потік іонів з енергією 16-18 еВ.
Измерены параметры плазмы и их однородность в планарном ЭЦР- плазменном источнике с мультипольным магнитным полем, которое создавалось параллельными магнитными стержнями длинной 12 см, состоящих из отдельных постоянных магнитов по 2 см каждый. Геометрия мультипольного магнитного поля изменялась за счет выбора полярности отдельных магнитов и расстояния между ними вдоль магнитного стержня. Для магнитной системы с переменной вдоль стержня ориентацией магнитного поля магнитов и с зазором 0,8 см между ними плотность плазмы составила 2.8×10¹⁰ сm¯³ и электронная температура 20-22 эВ. Показана однородность параметров плазмы на площади ~ 75 cm² на расстоянии 2 см от магнитной структуры . Для всех конфигураций магнитного поля наблюдался некомпенсированный поток ионов с энергией 16-18 эВ.
|
| first_indexed | 2025-12-07T13:31:36Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-111033 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T13:31:36Z |
| publishDate | 2008 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Fedorchenko, V.D. Chebotarev, V.V. Garkusha, I.E. Medvedev, A.V. Tereshin, V.I. Shevchuk, B.A. 2017-01-07T18:41:30Z 2017-01-07T18:41:30Z 2008 Influence of multipolar magnetic field geometry of ecr planar plasma source on plasma parameters / V.D. Fedorchenko, V.V. Chebotarev, I.E. Garkusha, A.V. Medvedev, V.I. Tereshin, B.A. Shevchuk // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 201-203. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.50.Dg; 81.15.Jj https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111033 The plasma parameters and its homogeneity were measured in ECR planar plasma source with multipolar magnetic field, which is created by three parallel magnetic bars of 12 cm in length consisted of set of the permanent magnets of 2 cm length. Geometry of the multipolar magnetic field is able to be changed by variation of the polarity and the distance between separate magnets along the bars. For magnetic system with alternative orientation of the magnetic field the plasma density up to 2.8×10¹⁰ сm¯³ and the electron temperature about 20-22 eV were measured within the area ~ 75 cm² at the distance of 2 cm apart the magnetic structure. The uncompensated ion flow with the energies of 16-18 eV was observed for all configurations of magnetic field. Параметри плазми та її однорідність були виміряні у планарному ЕЦР-плазмовому джерелі із мультипольним магнітним полем, яке утворювалося паралельними магнітними стрижнями довжиною 12 см, що складались з окремих постійних магнітів по 2 см кожний. Геометрія мультипольного магнітного поля змінювалася за рахунок варіювання полярності окремих магнітів та відстані між ними вздовж стрижня. Для магнітної системи з перемінною орієнтацією магнітного поля магнітів вздовж стрижня та с зазором 0,8 см між ними густина плазми складала 2.8×10¹⁰ сm¯³ та електронна температура 20-22 еВ. Показана однорідність параметрів плазми на площині ~ 75 cm² на відстані 2 см від магнітної структури. Для усіх конфігурацій магнітного поля спостерігався некомпенсований потік іонів з енергією 16-18 еВ. Измерены параметры плазмы и их однородность в планарном ЭЦР- плазменном источнике с мультипольным магнитным полем, которое создавалось параллельными магнитными стержнями длинной 12 см, состоящих из отдельных постоянных магнитов по 2 см каждый. Геометрия мультипольного магнитного поля изменялась за счет выбора полярности отдельных магнитов и расстояния между ними вдоль магнитного стержня. Для магнитной системы с переменной вдоль стержня ориентацией магнитного поля магнитов и с зазором 0,8 см между ними плотность плазмы составила 2.8×10¹⁰ сm¯³ и электронная температура 20-22 эВ. Показана однородность параметров плазмы на площади ~ 75 cm² на расстоянии 2 см от магнитной структуры . Для всех конфигураций магнитного поля наблюдался некомпенсированный поток ионов с энергией 16-18 эВ. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Low temperature plasma and plasma technologies Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters Вплив мультипольної геометрії магнітного поля планарного ЕЦР-плазмового джерела на параметри плазми Влияние мультипольной геометрии магнитного поля планарного ЭЦР-плазменного источника на параметры плазмы Article published earlier |
| spellingShingle | Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters Fedorchenko, V.D. Chebotarev, V.V. Garkusha, I.E. Medvedev, A.V. Tereshin, V.I. Shevchuk, B.A. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title | Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters |
| title_alt | Вплив мультипольної геометрії магнітного поля планарного ЕЦР-плазмового джерела на параметри плазми Влияние мультипольной геометрии магнитного поля планарного ЭЦР-плазменного источника на параметры плазмы |
| title_full | Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters |
| title_fullStr | Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters |
| title_full_unstemmed | Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters |
| title_short | Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters |
| title_sort | influence of multipolar magnetic field geometry of ecr planar plasma source on plasma parameters |
| topic | Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet | Low temperature plasma and plasma technologies |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111033 |
| work_keys_str_mv | AT fedorchenkovd influenceofmultipolarmagneticfieldgeometryofecrplanarplasmasourceonplasmaparameters AT chebotarevvv influenceofmultipolarmagneticfieldgeometryofecrplanarplasmasourceonplasmaparameters AT garkushaie influenceofmultipolarmagneticfieldgeometryofecrplanarplasmasourceonplasmaparameters AT medvedevav influenceofmultipolarmagneticfieldgeometryofecrplanarplasmasourceonplasmaparameters AT tereshinvi influenceofmultipolarmagneticfieldgeometryofecrplanarplasmasourceonplasmaparameters AT shevchukba influenceofmultipolarmagneticfieldgeometryofecrplanarplasmasourceonplasmaparameters AT fedorchenkovd vplivmulʹtipolʹnoígeometríímagnítnogopolâplanarnogoecrplazmovogodžerelanaparametriplazmi AT chebotarevvv vplivmulʹtipolʹnoígeometríímagnítnogopolâplanarnogoecrplazmovogodžerelanaparametriplazmi AT garkushaie vplivmulʹtipolʹnoígeometríímagnítnogopolâplanarnogoecrplazmovogodžerelanaparametriplazmi AT medvedevav vplivmulʹtipolʹnoígeometríímagnítnogopolâplanarnogoecrplazmovogodžerelanaparametriplazmi AT tereshinvi vplivmulʹtipolʹnoígeometríímagnítnogopolâplanarnogoecrplazmovogodžerelanaparametriplazmi AT shevchukba vplivmulʹtipolʹnoígeometríímagnítnogopolâplanarnogoecrplazmovogodžerelanaparametriplazmi AT fedorchenkovd vliâniemulʹtipolʹnoigeometriimagnitnogopolâplanarnogoécrplazmennogoistočnikanaparametryplazmy AT chebotarevvv vliâniemulʹtipolʹnoigeometriimagnitnogopolâplanarnogoécrplazmennogoistočnikanaparametryplazmy AT garkushaie vliâniemulʹtipolʹnoigeometriimagnitnogopolâplanarnogoécrplazmennogoistočnikanaparametryplazmy AT medvedevav vliâniemulʹtipolʹnoigeometriimagnitnogopolâplanarnogoécrplazmennogoistočnikanaparametryplazmy AT tereshinvi vliâniemulʹtipolʹnoigeometriimagnitnogopolâplanarnogoécrplazmennogoistočnikanaparametryplazmy AT shevchukba vliâniemulʹtipolʹnoigeometriimagnitnogopolâplanarnogoécrplazmennogoistočnikanaparametryplazmy |