Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters

Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters

The plasma parameters and its homogeneity were measured in ECR planar plasma source with multipolar magnetic field, which is created by three parallel magnetic bars of 12 cm in length consisted of set of the permanent magnets of 2 cm length. Geometry of the multipolar magnetic field is able to be ch...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2008
Автори: Fedorchenko, V.D., Chebotarev, V.V., Garkusha, I.E., Medvedev, A.V., Tereshin, V.I., Shevchuk, B.A.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2008
Теми:
Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111033
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Influence of multipolar magnetic field geometry of ecr planar plasma source on plasma parameters / V.D. Fedorchenko, V.V. Chebotarev, I.E. Garkusha, A.V. Medvedev, V.I. Tereshin, B.A. Shevchuk // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 201-203. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-111033
record_format dspace
spelling Fedorchenko, V.D.
Chebotarev, V.V.
Garkusha, I.E.
Medvedev, A.V.
Tereshin, V.I.
Shevchuk, B.A.
2017-01-07T18:41:30Z
2017-01-07T18:41:30Z
2008
Influence of multipolar magnetic field geometry of ecr planar plasma source on plasma parameters / V.D. Fedorchenko, V.V. Chebotarev, I.E. Garkusha, A.V. Medvedev, V.I. Tereshin, B.A. Shevchuk // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 201-203. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.50.Dg; 81.15.Jj
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111033
The plasma parameters and its homogeneity were measured in ECR planar plasma source with multipolar magnetic field, which is created by three parallel magnetic bars of 12 cm in length consisted of set of the permanent magnets of 2 cm length. Geometry of the multipolar magnetic field is able to be changed by variation of the polarity and the distance between separate magnets along the bars. For magnetic system with alternative orientation of the magnetic field the plasma density up to 2.8×10¹⁰ сm¯³ and the electron temperature about 20-22 eV were measured within the area ~ 75 cm² at the distance of 2 cm apart the magnetic structure. The uncompensated ion flow with the energies of 16-18 eV was observed for all configurations of magnetic field.
Параметри плазми та її однорідність були виміряні у планарному ЕЦР-плазмовому джерелі із мультипольним магнітним полем, яке утворювалося паралельними магнітними стрижнями довжиною 12 см, що складались з окремих постійних магнітів по 2 см кожний. Геометрія мультипольного магнітного поля змінювалася за рахунок варіювання полярності окремих магнітів та відстані між ними вздовж стрижня. Для магнітної системи з перемінною орієнтацією магнітного поля магнітів вздовж стрижня та с зазором 0,8 см між ними густина плазми складала 2.8×10¹⁰ сm¯³ та електронна температура 20-22 еВ. Показана однорідність параметрів плазми на площині ~ 75 cm² на відстані 2 см від магнітної структури. Для усіх конфігурацій магнітного поля спостерігався некомпенсований потік іонів з енергією 16-18 еВ.
Измерены параметры плазмы и их однородность в планарном ЭЦР- плазменном источнике с мультипольным магнитным полем, которое создавалось параллельными магнитными стержнями длинной 12 см, состоящих из отдельных постоянных магнитов по 2 см каждый. Геометрия мультипольного магнитного поля изменялась за счет выбора полярности отдельных магнитов и расстояния между ними вдоль магнитного стержня. Для магнитной системы с переменной вдоль стержня ориентацией магнитного поля магнитов и с зазором 0,8 см между ними плотность плазмы составила 2.8×10¹⁰ сm¯³ и электронная температура 20-22 эВ. Показана однородность параметров плазмы на площади ~ 75 cm² на расстоянии 2 см от магнитной структуры . Для всех конфигураций магнитного поля наблюдался некомпенсированный поток ионов с энергией 16-18 эВ.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Low temperature plasma and plasma technologies
Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
Вплив мультипольної геометрії магнітного поля планарного ЕЦР-плазмового джерела на параметри плазми
Влияние мультипольной геометрии магнитного поля планарного ЭЦР-плазменного источника на параметры плазмы
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
spellingShingle Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
Fedorchenko, V.D.
Chebotarev, V.V.
Garkusha, I.E.
Medvedev, A.V.
Tereshin, V.I.
Shevchuk, B.A.
Low temperature plasma and plasma technologies
title_short Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
title_full Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
title_fullStr Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
title_full_unstemmed Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
title_sort influence of multipolar magnetic field geometry of ecr planar plasma source on plasma parameters
author Fedorchenko, V.D.
Chebotarev, V.V.
Garkusha, I.E.
Medvedev, A.V.
Tereshin, V.I.
Shevchuk, B.A.
author_facet Fedorchenko, V.D.
Chebotarev, V.V.
Garkusha, I.E.
Medvedev, A.V.
Tereshin, V.I.
Shevchuk, B.A.
topic Low temperature plasma and plasma technologies
topic_facet Low temperature plasma and plasma technologies
publishDate 2008
language English
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Вплив мультипольної геометрії магнітного поля планарного ЕЦР-плазмового джерела на параметри плазми
Влияние мультипольной геометрии магнитного поля планарного ЭЦР-плазменного источника на параметры плазмы
description The plasma parameters and its homogeneity were measured in ECR planar plasma source with multipolar magnetic field, which is created by three parallel magnetic bars of 12 cm in length consisted of set of the permanent magnets of 2 cm length. Geometry of the multipolar magnetic field is able to be changed by variation of the polarity and the distance between separate magnets along the bars. For magnetic system with alternative orientation of the magnetic field the plasma density up to 2.8×10¹⁰ сm¯³ and the electron temperature about 20-22 eV were measured within the area ~ 75 cm² at the distance of 2 cm apart the magnetic structure. The uncompensated ion flow with the energies of 16-18 eV was observed for all configurations of magnetic field. Параметри плазми та її однорідність були виміряні у планарному ЕЦР-плазмовому джерелі із мультипольним магнітним полем, яке утворювалося паралельними магнітними стрижнями довжиною 12 см, що складались з окремих постійних магнітів по 2 см кожний. Геометрія мультипольного магнітного поля змінювалася за рахунок варіювання полярності окремих магнітів та відстані між ними вздовж стрижня. Для магнітної системи з перемінною орієнтацією магнітного поля магнітів вздовж стрижня та с зазором 0,8 см між ними густина плазми складала 2.8×10¹⁰ сm¯³ та електронна температура 20-22 еВ. Показана однорідність параметрів плазми на площині ~ 75 cm² на відстані 2 см від магнітної структури. Для усіх конфігурацій магнітного поля спостерігався некомпенсований потік іонів з енергією 16-18 еВ. Измерены параметры плазмы и их однородность в планарном ЭЦР- плазменном источнике с мультипольным магнитным полем, которое создавалось параллельными магнитными стержнями длинной 12 см, состоящих из отдельных постоянных магнитов по 2 см каждый. Геометрия мультипольного магнитного поля изменялась за счет выбора полярности отдельных магнитов и расстояния между ними вдоль магнитного стержня. Для магнитной системы с переменной вдоль стержня ориентацией магнитного поля магнитов и с зазором 0,8 см между ними плотность плазмы составила 2.8×10¹⁰ сm¯³ и электронная температура 20-22 эВ. Показана однородность параметров плазмы на площади ~ 75 cm² на расстоянии 2 см от магнитной структуры . Для всех конфигураций магнитного поля наблюдался некомпенсированный поток ионов с энергией 16-18 эВ.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111033
citation_txt Influence of multipolar magnetic field geometry of ecr planar plasma source on plasma parameters / V.D. Fedorchenko, V.V. Chebotarev, I.E. Garkusha, A.V. Medvedev, V.I. Tereshin, B.A. Shevchuk // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 201-203. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT fedorchenkovd influenceofmultipolarmagneticfieldgeometryofecrplanarplasmasourceonplasmaparameters
AT chebotarevvv influenceofmultipolarmagneticfieldgeometryofecrplanarplasmasourceonplasmaparameters
AT garkushaie influenceofmultipolarmagneticfieldgeometryofecrplanarplasmasourceonplasmaparameters
AT medvedevav influenceofmultipolarmagneticfieldgeometryofecrplanarplasmasourceonplasmaparameters
AT tereshinvi influenceofmultipolarmagneticfieldgeometryofecrplanarplasmasourceonplasmaparameters
AT shevchukba influenceofmultipolarmagneticfieldgeometryofecrplanarplasmasourceonplasmaparameters
AT fedorchenkovd vplivmulʹtipolʹnoígeometríímagnítnogopolâplanarnogoecrplazmovogodžerelanaparametriplazmi
AT chebotarevvv vplivmulʹtipolʹnoígeometríímagnítnogopolâplanarnogoecrplazmovogodžerelanaparametriplazmi
AT garkushaie vplivmulʹtipolʹnoígeometríímagnítnogopolâplanarnogoecrplazmovogodžerelanaparametriplazmi
AT medvedevav vplivmulʹtipolʹnoígeometríímagnítnogopolâplanarnogoecrplazmovogodžerelanaparametriplazmi
AT tereshinvi vplivmulʹtipolʹnoígeometríímagnítnogopolâplanarnogoecrplazmovogodžerelanaparametriplazmi
AT shevchukba vplivmulʹtipolʹnoígeometríímagnítnogopolâplanarnogoecrplazmovogodžerelanaparametriplazmi
AT fedorchenkovd vliâniemulʹtipolʹnoigeometriimagnitnogopolâplanarnogoécrplazmennogoistočnikanaparametryplazmy
AT chebotarevvv vliâniemulʹtipolʹnoigeometriimagnitnogopolâplanarnogoécrplazmennogoistočnikanaparametryplazmy
AT garkushaie vliâniemulʹtipolʹnoigeometriimagnitnogopolâplanarnogoécrplazmennogoistočnikanaparametryplazmy
AT medvedevav vliâniemulʹtipolʹnoigeometriimagnitnogopolâplanarnogoécrplazmennogoistočnikanaparametryplazmy
AT tereshinvi vliâniemulʹtipolʹnoigeometriimagnitnogopolâplanarnogoécrplazmennogoistočnikanaparametryplazmy
AT shevchukba vliâniemulʹtipolʹnoigeometriimagnitnogopolâplanarnogoécrplazmennogoistočnikanaparametryplazmy
first_indexed 2025-12-07T13:31:36Z
last_indexed 2025-12-07T13:31:36Z
_version_ 1850856488494432256

Схожі ресурси