Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
The plasma parameters and its homogeneity were measured in ECR planar plasma source with multipolar magnetic field, which is created by three parallel magnetic bars of 12 cm in length consisted of set of the permanent magnets of 2 cm length. Geometry of the multipolar magnetic field is able to be ch...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2008 |
| Автори: | Fedorchenko, V.D., Chebotarev, V.V., Garkusha, I.E., Medvedev, A.V., Tereshin, V.I., Shevchuk, B.A. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2008
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111033 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Influence of multipolar magnetic field geometry of ecr planar plasma source on plasma parameters / V.D. Fedorchenko, V.V. Chebotarev, I.E. Garkusha, A.V. Medvedev, V.I. Tereshin, B.A. Shevchuk // Вопросы атомной науки и техники. — 2008. — № 6. — С. 201-203. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)
Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)
Ion kinetics in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)
Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)
Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)
Influence of plasma treatment on erosion haracteristics and structure of reversible hydrogen getters
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2000)
Plasma sterilizer with ultrasonic cavitation
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Surface modification of Nd-Fe-B based materials with pulsed helium plasma streams
за авторством: Bovda, A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Bovda, A., та інші
Опубліковано: (2005)
Influence of the plasma stream irradiation on the surface modification, structure and properties of materials
за авторством: Lapshin, V.I., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Lapshin, V.I., та інші
Опубліковано: (2000)
Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)
Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Application of dielectric barrier discharge and plasma-chemical reactor for water purification from NH₄OH
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2020)
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
The synthesis of TiAlN composites by condensation of the different arc plasma flows
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Taran, V.S., та інші
Опубліковано: (2005)
Some aspects of electrolytic-plasma processing technology
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Tarasov, I.K., та інші
Опубліковано: (2023)
The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)
Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)
Nanotube formation on catalytic surface in plasma discharge
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Maslov, V.I., та інші
Опубліковано: (2005)
The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)
Emission characteristics and potential of macroparticle in beam-plasma discharge
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)
Investigation of jumping pulsed electrical discharge for plasma chemistry application
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Berezina, G.P., та інші
Опубліковано: (2002)
Peculiarities of properties of the pulse plasma jet
за авторством: Podzirey, Yu.S., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Podzirey, Yu.S., та інші
Опубліковано: (2016)
Large-area surface wave plasma source
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)
Stability of thin quasi-crystalline Ti-Zr-Ni films and related crystalline phases under low-energy transient plasma irradiation
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Malykhin, S.V., та інші
Опубліковано: (2022)
Coating in the arc discharges with plasma flow filtration
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)
Specific of interaction of the macroparticles with the plasma-beam systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)
Erosion, permeation and outgassing performances of tin coating under/after hydrogen plasma iffadiation
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Glazunov, G.P., та інші
Опубліковано: (2000)
On the synthesis and processing of nanoparticles by plasmas
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Ahadi, Amir Mohammad, та інші
Опубліковано: (2016)
Dynamics of macroparticle in a weakly collisional plasma
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2019)
Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)
Shock alloying of metals by cumulative plasma streams
за авторством: Ivanov, L.I., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Ivanov, L.I., та інші
Опубліковано: (2006)
Study of the effect of plasma chemical oxidation of ethylene impurity on the efficiency of banana storage
за авторством: Egorov, M.O., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Egorov, M.O., та інші
Опубліковано: (2022)
Modification of coating-substrate systems under the action of compression plasma flow
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
Plasma-catalytic reforming of rich ethanol-air mixtures
за авторством: Fedirchyk, I.I., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Fedirchyk, I.I., та інші
Опубліковано: (2019)
Combustion of ethanol+air mixture supported by transverse arc plasma
за авторством: Yukhymenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Yukhymenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)
Plasma of underwater electric discharges with metal vapors
за авторством: Boretskij, V.F., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Boretskij, V.F., та інші
Опубліковано: (2019)
On the properties of the nonideal plasma of electrical pulse discharges in water
за авторством: Starchyk, P.D., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Starchyk, P.D., та інші
Опубліковано: (2008)
Vacuum-arc plasma source with steered cathode spot
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2008)
Nanostructured formations and coatings created on the surface of materials exposed to compression plasma flows
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)
Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)
Схожі ресурси
-
Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007) -
Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005) -
Ion kinetics in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002) -
Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002) -
Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification
за авторством: Byrka, O.V., та інші
Опубліковано: (2002)