Импульсный плазменный катод с большой эмитирующей поверхностью

• Veröffentlicht in: Вопросы атомной науки и техники
• Datum: 2003
• Hauptverfasser: Юферов, В.Б., Скибенко, Е.И., Сороковой, Л.Г., Рыбалко, А.Н., Ткачев, В.И., Косик, Н.А., Буравилов, И.В., Пономарев, А.Н., Лукин, К.А., Онищенко, И.Н.
• Format: Artikel
• Sprache: Russian
• Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2003
• Schlagworte: Приложения и технологии
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/111234
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Импульсный плазменный катод с большой эмитирующей поверхностью / В.Б. Юферов, Е.И. Скибенко, Л.Г. Сороковой, А.Н. Рыбалко, В.И. Ткачев, Н.А. Косик, И.В. Буравилов, А.Н. Пономарев, К.А. Лукин, И.Н. Онищенко // Вопросы атомной науки и техники. — 2003. — № 4. — С. 319-322. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Проводились эксперименты по разработке плазменного импульсного катода с большой эмитирующей поверхностью. Он создавался с помощью набора параллельно работающих многозазорных плазменных пушек. С помощью 8 мм интерферометра определена динамика плотности плазмы....