Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system

In experiments on two helicon sources driven by a planar antenna, it is shown that the plasma density in the drift chamber and the energies and density of the ion flux onto the substrate holder can be effectively controlled by changing the local magnetic field and the holder potential. Експериментам...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Вопросы атомной науки и техники
Date:2013
Main Authors: Semenyuk, V.F., Virko, V.F., Korotash, I.V., Osipov, L.S., Polotsky, D.Yu., Rudenko, E.M., Slobodyan, V.M., Shamrai, K.P.
Format: Article
Language:English
Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2013
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/112183
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system / V.F. Semenyuk, V.F. Virko, I.V. Korotash, L.S. Osipov, D.Yu. Polotsky, E.M. Rudenko,V.M. Slobodyan, K.P. Shamrai // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 4. — С. 179-182. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862568179057819648
author Semenyuk, V.F.
Virko, V.F.
Korotash, I.V.
Osipov, L.S.
Polotsky, D.Yu.
Rudenko, E.M.
Slobodyan, V.M.
Shamrai, K.P.
author_facet Semenyuk, V.F.
Virko, V.F.
Korotash, I.V.
Osipov, L.S.
Polotsky, D.Yu.
Rudenko, E.M.
Slobodyan, V.M.
Shamrai, K.P.
citation_txt Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system / V.F. Semenyuk, V.F. Virko, I.V. Korotash, L.S. Osipov, D.Yu. Polotsky, E.M. Rudenko,V.M. Slobodyan, K.P. Shamrai // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 4. — С. 179-182. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.
collection DSpace DC
container_title Вопросы атомной науки и техники
description In experiments on two helicon sources driven by a planar antenna, it is shown that the plasma density in the drift chamber and the energies and density of the ion flux onto the substrate holder can be effectively controlled by changing the local magnetic field and the holder potential. Експериментами на двох геліконних джерелах з плоскою збуджуючою антеною показано, что густиною плазми в дрейфовій камері та енергіями і густиною іонного потоку на підкладинкотримач можна ефективно керувати зміненням локального магнітного поля і потенциалу тримача. Экспериментами на двух геликонных источниках с плоской возбуждающей антенной показано, что плотностью плазмы в дрейфовой камере и энергиями и плотностью ионного потока на подложкодержатель можно эффективно управлять изменением локального магнитного поля и потенциала держателя.
first_indexed 2025-11-26T00:17:52Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-112183
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1562-6016
language English
last_indexed 2025-11-26T00:17:52Z
publishDate 2013
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
record_format dspace
spelling Semenyuk, V.F.
Virko, V.F.
Korotash, I.V.
Osipov, L.S.
Polotsky, D.Yu.
Rudenko, E.M.
Slobodyan, V.M.
Shamrai, K.P.
2017-01-17T20:14:46Z
2017-01-17T20:14:46Z
2013
Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system / V.F. Semenyuk, V.F. Virko, I.V. Korotash, L.S. Osipov, D.Yu. Polotsky, E.M. Rudenko,V.M. Slobodyan, K.P. Shamrai // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 4. — С. 179-182. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.50.Dg; 52.50.Qt.
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/112183
In experiments on two helicon sources driven by a planar antenna, it is shown that the plasma density in the drift chamber and the energies and density of the ion flux onto the substrate holder can be effectively controlled by changing the local magnetic field and the holder potential.
Експериментами на двох геліконних джерелах з плоскою збуджуючою антеною показано, что густиною плазми в дрейфовій камері та енергіями і густиною іонного потоку на підкладинкотримач можна ефективно керувати зміненням локального магнітного поля і потенциалу тримача.
Экспериментами на двух геликонных источниках с плоской возбуждающей антенной показано, что плотностью плазмы в дрейфовой камере и энергиями и плотностью ионного потока на подложкодержатель можно эффективно управлять изменением локального магнитного поля и потенциала держателя.
This work was performed by the joint project
 № 5713 of the National Academy of Sciences of
 Ukraine and the Science and Technology Center in
 Ukraine.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system
Керування параметрами, що визначають технологічні властивості геликонної розрядної системи
Управление параметрами, определяющими технологические свойства геликонной разрядной системы
Article
published earlier
spellingShingle Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system
Semenyuk, V.F.
Virko, V.F.
Korotash, I.V.
Osipov, L.S.
Polotsky, D.Yu.
Rudenko, E.M.
Slobodyan, V.M.
Shamrai, K.P.
Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
title Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system
title_alt Керування параметрами, що визначають технологічні властивості геликонної розрядної системи
Управление параметрами, определяющими технологические свойства геликонной разрядной системы
title_full Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system
title_fullStr Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system
title_full_unstemmed Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system
title_short Сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system
title_sort сontrolling parameters determining technological properties of a helicon discharge system
topic Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
topic_facet Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/112183
work_keys_str_mv AT semenyukvf sontrollingparametersdeterminingtechnologicalpropertiesofahelicondischargesystem
AT virkovf sontrollingparametersdeterminingtechnologicalpropertiesofahelicondischargesystem
AT korotashiv sontrollingparametersdeterminingtechnologicalpropertiesofahelicondischargesystem
AT osipovls sontrollingparametersdeterminingtechnologicalpropertiesofahelicondischargesystem
AT polotskydyu sontrollingparametersdeterminingtechnologicalpropertiesofahelicondischargesystem
AT rudenkoem sontrollingparametersdeterminingtechnologicalpropertiesofahelicondischargesystem
AT slobodyanvm sontrollingparametersdeterminingtechnologicalpropertiesofahelicondischargesystem
AT shamraikp sontrollingparametersdeterminingtechnologicalpropertiesofahelicondischargesystem
AT semenyukvf keruvannâparametramiŝoviznačaûtʹtehnologíčnívlastivostígelikonnoírozrâdnoísistemi
AT virkovf keruvannâparametramiŝoviznačaûtʹtehnologíčnívlastivostígelikonnoírozrâdnoísistemi
AT korotashiv keruvannâparametramiŝoviznačaûtʹtehnologíčnívlastivostígelikonnoírozrâdnoísistemi
AT osipovls keruvannâparametramiŝoviznačaûtʹtehnologíčnívlastivostígelikonnoírozrâdnoísistemi
AT polotskydyu keruvannâparametramiŝoviznačaûtʹtehnologíčnívlastivostígelikonnoírozrâdnoísistemi
AT rudenkoem keruvannâparametramiŝoviznačaûtʹtehnologíčnívlastivostígelikonnoírozrâdnoísistemi
AT slobodyanvm keruvannâparametramiŝoviznačaûtʹtehnologíčnívlastivostígelikonnoírozrâdnoísistemi
AT shamraikp keruvannâparametramiŝoviznačaûtʹtehnologíčnívlastivostígelikonnoírozrâdnoísistemi
AT semenyukvf upravlenieparametramiopredelâûŝimitehnologičeskiesvoistvagelikonnoirazrâdnoisistemy
AT virkovf upravlenieparametramiopredelâûŝimitehnologičeskiesvoistvagelikonnoirazrâdnoisistemy
AT korotashiv upravlenieparametramiopredelâûŝimitehnologičeskiesvoistvagelikonnoirazrâdnoisistemy
AT osipovls upravlenieparametramiopredelâûŝimitehnologičeskiesvoistvagelikonnoirazrâdnoisistemy
AT polotskydyu upravlenieparametramiopredelâûŝimitehnologičeskiesvoistvagelikonnoirazrâdnoisistemy
AT rudenkoem upravlenieparametramiopredelâûŝimitehnologičeskiesvoistvagelikonnoirazrâdnoisistemy
AT slobodyanvm upravlenieparametramiopredelâûŝimitehnologičeskiesvoistvagelikonnoirazrâdnoisistemy
AT shamraikp upravlenieparametramiopredelâûŝimitehnologičeskiesvoistvagelikonnoirazrâdnoisistemy