Структура, фазовый состав и модель роста аморфных многослойных рентгеновских зеркал W-Si, изготовленных методом магнетронного распыления

• Veröffentlicht in: Журнал физики и инженерии поверхности
• Datum: 2016
• Hauptverfasser: Першин, Ю.П., Девизенко, А.Ю., Мамон, В.В., Чумак, В.С., Кондратенко, В.В.
• Format: Artikel
• Sprache: Russian
• Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2016
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116806
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Структура, фазовый состав и модель роста аморфных многослойных рентгеновских зеркал W-Si, изготовленных методом магнетронного распыления / Ю.П. Першин, А.Ю. Девизенко, В.В. Мамон, В.С. Чумак, В.В. Кондратенко // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2016. — Т. 1, № 1. — С. 27-41. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.

Методами рентгеновской дифрактометрии и рентгеновской рефлектометрии (λ = 0,154 нм) исследованы структура и фазовый состав многослойных рентгеновских зеркал (МРЗ) W/Si, изготовленных методом прямоточного магнетронного распыления. Показано, что в результате взаимодействия компонентов в многослойной системе на межфазных границах формируются асимметричные силицидные прослойки как по составу, так и по толщине. Сделаны оценки плотности каждого из слоев МРЗ W/Si. Предложена модель строения аморфных МРЗ W/Si. Методами рентгенівської дифрактометрії та рентгенівської рефрактометрії (λ = 0,154 нм) досліджені структура та фазовий склад багатошарових рентгенівських дзеркал (БРД) W/Si, виготовлених методом магнетронного розпилення. Встановлено, що в результаті взаємодії компонентів у багатошаровій системі на міжфазних межах формуються асиметричні силіцидні прошарки неоднакового складу та товщини. Зроблена оцінка густини кожного шару БРД W/Si. Запропонована модель будови БРД W/Si. By methods of X-ray diffractometry and relectometry (λ = 0.154 nm) the structure and phase composition of W/Si multilayer X-ray mirrors (MXMs) deposited with DC magnetron sputtering are studied. It is shown that as a result of component interaction during the deposition process asymmetric silicide interlayers are formed at interfaces of multilayer system. The adjacent interlayers within the MXM period differ both by composition and thickness. The densities of each layer are estimated. Model of W/Si MXM construction is proposed.