Mechanism of current flow and temperature dependence of contact resistivity in Au-Pd-Ti-Pd-n⁺ -GaN ohmic contacts

• Опубліковано в: : Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
• Дата: 2013
• Автори: Sachenko, A.V., Belyaev, A.E., Boltovets, N.S., Kapitanchuk, L.M., Klad’ko, V.P., Konakova, R.V., Kuchuk, A.V., Korostinskay, T.V., Pilipchuk, A.S., Sheremet, V.N., Mazur, Yu.I., Ware, M.E., Salamo, G.J.
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2013
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/117817
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Mechanism of current flow and temperature dependence of contact resistivity in Au-Pd-Ti-Pd-n⁺ -GaN ohmic contacts / A.V. Sachenko, A.E. Belyaev, N.S. Boltovets, L.M. Kapitanchuk, V.P. Klad’ko, R.V. Konakova, A.V. Kuchuk, T.V. Korostinskaya, A.S. Pilipchuk, V.N. Sheremet, Yu.I. Mazur, M.E. Ware, G.J. Salamo // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2013. — Т. 16, № 4. — С. 313-321. — Бібліогр.: 32 назв. — англ.

We present the results of structural and morphological investigations of interactions between phases in the layers of Au-Pd-Ti-Pd-n⁺-GaN contact metallization that appear at rapid thermal annealing (RTA). It is shown that formation of ohmic contact occurs in the course of RTA at Т = 900°C due to f...