Laser-induced incandescence of silicon surface under 1064-nm excitation

Laser-induced incandescence (LII) of silicon surface is investigated under the
 excitation by a Q-switched YAG:Nd laser. With the increase of laser irradiation dose, the
 increase of LII signal is observed, which is attended by visible changes of the surface
 geometry. The an...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Дата:2012
Автори: Kopyshinsky, A.V., Zelensky, S.E., Gomon, E.A., Rozouvan, S.G., Kolesnik, A.S.
Формат: Стаття
Мова:Англійська
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2012
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/118730
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Laser-induced incandescence of silicon surface under 1064-nm excitation / A.V. Kopyshinsky, S.E. Zelensky, E.A. Gomon, S.G. Rozouvan, A.S. Kolesnik // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2012. — Т. 15, № 4. — С. 376-381. — Бібліогр.: 26 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine