Mapping between two models of etching process
We consider two models for the etching processes using numerical simulations based on cellular-automata
 discrete-lattice approach. In one model we use a uniform etching probability for each surface site. In another
 model the etching probability at a given site depends on the local...
Збережено в:
| Опубліковано в: | Condensed Matter Physics |
|---|---|
| Дата: | 2007 |
| ISSN: | 1607-324X |
| Автори: | Patsahan, T., Taleb, A., Stafiej, J., Badiali, J.-P. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Інститут фізики конденсованих систем НАН України
2007
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/118950 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Mapping between two models of etching process / T. Patsahan, A. Taleb, J. Stafiej, J.-P. Badiali // Condensed Matter Physics. — 2007. — Т. 10, № 4(52). — С. 579-585. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Stochastic simulation of destruction processes in self-irradiated materials
за авторством: Patsahan, T., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Patsahan, T., та інші
Опубліковано: (2017)
Numerical simulations of corrosion processes. Properties of the corrosion front and formation of islands
за авторством: Vautrin-Ul, C., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Vautrin-Ul, C., та інші
Опубліковано: (2004)
The concept of entropy. Relation between action and entropy
за авторством: Badiali, J.-P.
Опубліковано: (2005)
за авторством: Badiali, J.-P.
Опубліковано: (2005)
Modeling of information recording and selective etching processes in inorganic resists
за авторством: Morozovska, A.N., та інші
Опубліковано: (2005)
за авторством: Morozovska, A.N., та інші
Опубліковано: (2005)
Influence of intensive etching processes on structure and properties of carbon nitride films
за авторством: Shalaev, R.V., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Shalaev, R.V., та інші
Опубліковано: (2008)
Obtaining porous silicon suitable for sensor technology using MacEtch nonelectrolytic etching
за авторством: I. R. Jatsunskij
Опубліковано: (2013)
за авторством: I. R. Jatsunskij
Опубліковано: (2013)
Photostimulated etching of germanium chalcogenide films
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2012)
Photostimulated etching of germanium chalcogenide films
за авторством: Dan’ko, V.A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Dan’ko, V.A., та інші
Опубліковано: (2012)
Energy-saving technology for processing of exhausted etching solutions with obtaining of ferromagnetic compounds
за авторством: Samchenko, Dmitry N., та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: Samchenko, Dmitry N., та інші
Опубліковано: (2022)
Preferential etching by flowing oxygen on the (100) surfaces of HPHT single-crystal diamond
за авторством: L. M. Yang, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: L. M. Yang, та інші
Опубліковано: (2017)
Preferential etching by flowing oxygen on the (100) surfaces of HPHT single-crystal diamond
за авторством: Yang, L.M., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Yang, L.M., та інші
Опубліковано: (2017)
Energy-saving technology for processing of exhausted etching solutions with obtaining of ferromagnetic compounds
за авторством: D. M. Samchenko, та інші
Опубліковано: (2022)
за авторством: D. M. Samchenko, та інші
Опубліковано: (2022)
Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
за авторством: S. V. Dudin
Опубліковано: (2006)
Modification of optical properties of porous AIIIBV layers produced by anodic etching
за авторством: N. Dmitruk, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: N. Dmitruk, та інші
Опубліковано: (2012)
Modification of optical properties of porous AIIIBV layers produced by anodic etching
за авторством: N. Dmitruk, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: N. Dmitruk, та інші
Опубліковано: (2012)
Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: A. V. Pankratova, та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: A. V. Pankratova, та інші
Опубліковано: (2021)
Nanodimensional formations on the CdTe and ZnₓCd₁₋ₓTe surfaces at chemical etching
за авторством: Tomashyk, Z.F., та інші
Опубліковано: (2008)
за авторством: Tomashyk, Z.F., та інші
Опубліковано: (2008)
Preparation of nanoporous n-InP(100) layers by electrochemical etching in HCI solution
за авторством: Sychikova, J.A., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Sychikova, J.A., та інші
Опубліковано: (2010)
Obtaining periodic layers GaAs by electrochemical etching
за авторством: A. F. Djadenchuk, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. F. Djadenchuk, та інші
Опубліковано: (2014)
Photoinduced etching of thin films of chalcogenide glasses
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: V. A. Danko, та інші
Опубліковано: (2012)
Statistical mechanics in a discrete space-time. Thermodynamics and time-irreversibility
за авторством: Badiali, J.P.
Опубліковано: (2003)
за авторством: Badiali, J.P.
Опубліковано: (2003)
Main points in my career
за авторством: Badiali, J.-P.
Опубліковано: (2001)
за авторством: Badiali, J.-P.
Опубліковано: (2001)
Time evolution of a small reactive system
за авторством: Badiali, J.P.
Опубліковано: (2013)
за авторством: Badiali, J.P.
Опубліковано: (2013)
Fractal behaviour of quantum paths in statistical physics
за авторством: Badiali, J.P.
Опубліковано: (2000)
за авторством: Badiali, J.P.
Опубліковано: (2000)
Investigation of the process of microrelief structures formation in chromium films based on the method of chemical etching
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)
за авторством: Панкратова, А. В., та інші
Опубліковано: (2021)
The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon
за авторством: Fedorovich, О.А., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Fedorovich, О.А., та інші
Опубліковано: (2015)
Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2006)
Thermochemical etching of sapphire in CO+H₂ gas atmosphere
за авторством: Kaltaev, Kh.Sh.-ogly, та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Kaltaev, Kh.Sh.-ogly, та інші
Опубліковано: (2010)
Photometric monitoring of etching rate of thin dielectric films
за авторством: S. E. Semenova, та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: S. E. Semenova, та інші
Опубліковано: (2006)
Automation of measurements of the rate of thin films chemical etching
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024)
за авторством: Іваницький, В. П., та інші
Опубліковано: (2024)
A Map Between Moduli Spaces of Connections
за авторством: Loray, Frank, та інші
Опубліковано: (2020)
за авторством: Loray, Frank, та інші
Опубліковано: (2020)
Sard’s theorem for mappings between Fréchet manifolds
за авторством: Eftekharinasab, K.
Опубліковано: (2010)
за авторством: Eftekharinasab, K.
Опубліковано: (2010)
A field theoretical approach to the Debye-Huckel electrolyte differential capacitance in a slab
за авторством: di Caprio, D., та інші
Опубліковано: (2001)
за авторством: di Caprio, D., та інші
Опубліковано: (2001)
Implementation of mappings between the description logic and the binary relational data model on the RDF level
за авторством: I. S. Chystiakova
Опубліковано: (2020)
за авторством: I. S. Chystiakova
Опубліковано: (2020)
Implementation of mappings between the description logic and the binary relational data model on the RDF level
за авторством: Chystiakova, I.S.
Опубліковано: (2020)
за авторством: Chystiakova, I.S.
Опубліковано: (2020)
Implementation of mappings between the description logic and the binary relational data model on the RDF level
за авторством: Chystiakova, I.S.
Опубліковано: (2021)
за авторством: Chystiakova, I.S.
Опубліковано: (2021)
Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2007)
Superhydrophobic/superhydrophilic switching on the surface of ZnO microstructures caused by UV irradiation and argon ion etching process
за авторством: Kapustianyk, V.B., та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: Kapustianyk, V.B., та інші
Опубліковано: (2016)
Development of deep silicon plasma etching for 3D integration technology
за авторством: A. A. Golishnikov, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: A. A. Golishnikov, та інші
Опубліковано: (2014)
Influence of the plasma chemical etching on the silicon plates surface of photo electric converters
за авторством: B. P. Polozov, та інші
Опубліковано: (2006)
за авторством: B. P. Polozov, та інші
Опубліковано: (2006)
Схожі ресурси
-
Stochastic simulation of destruction processes in self-irradiated materials
за авторством: Patsahan, T., та інші
Опубліковано: (2017) -
Numerical simulations of corrosion processes. Properties of the corrosion front and formation of islands
за авторством: Vautrin-Ul, C., та інші
Опубліковано: (2004) -
The concept of entropy. Relation between action and entropy
за авторством: Badiali, J.-P.
Опубліковано: (2005) -
Modeling of information recording and selective etching processes in inorganic resists
за авторством: Morozovska, A.N., та інші
Опубліковано: (2005) -
Influence of intensive etching processes on structure and properties of carbon nitride films
за авторством: Shalaev, R.V., та інші
Опубліковано: (2008)