Theoretical and experimental modelling the specific resistance of vertical ohmic contacts Au–Ti–Pd–n⁺-n-n⁺-Si in IMPATT diodes
The method of electrophysical diagnostic of n⁺-n-n⁺ structures at the etching stage of manufacturing process of power IMPATT diodes has been proposed. A numerical method for specific contacts resistance calculation of vertical ohmic contacts with a non-uniform doping level has been developed. Vertic...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
|---|---|
| Дата: | 2016 |
| Автори: | , , , , , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2016
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/121657 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Theoretical and experimental modelling the specific resistance of vertical ohmic contacts Au–Ti–Pd–n⁺-n-n⁺-Si in IMPATT diodes / P.M. Romanets, A.E. Belyaev, А.V. Sachenko, N.S. Boltovets, V.V. Basanets, R.V. Konakova, V.S. Slipokurov, А.А. Khodin, V.А. Pilipenko, V.V. Shynkarenko, Ya.Ya. Kudryk // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2016. — Т. 19, № 4. — С. 366-370. — Бібліогр.: 9 назв. — англ. |