Влияние изовалентного легирования висмутом на свойства эпитаксиального арсенида галлия

Показана перспективность применения висмута в качестве металла-растворителя для жидкофазной эпитаксии арсенида галлия. The application prospects of bismuth as solvent of metal for gallium arsenide liquid-phase epitaxy has been shown....

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Datum:1999
1. Verfasser: Шутов, С.В.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 1999
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122743
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Влияние изовалентного легирования висмутом на свойства эпитаксиального арсенида галлия / С.В. Шутов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 5-6. — С. 48-50. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-122743
record_format dspace
spelling Шутов, С.В.
2017-07-19T12:56:03Z
2017-07-19T12:56:03Z
1999
Влияние изовалентного легирования висмутом на свойства эпитаксиального арсенида галлия / С.В. Шутов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 5-6. — С. 48-50. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122743
Показана перспективность применения висмута в качестве металла-растворителя для жидкофазной эпитаксии арсенида галлия.
The application prospects of bismuth as solvent of metal for gallium arsenide liquid-phase epitaxy has been shown.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Материалы для электронных компонентов
Влияние изовалентного легирования висмутом на свойства эпитаксиального арсенида галлия
Вплив ізовалентного легірування вісмутом на властивості епітаксіального арсениду галія
Materials for electronical components The impact of isovalent vismuth doping on properties of epitaxial gallium arsenide.
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Влияние изовалентного легирования висмутом на свойства эпитаксиального арсенида галлия
spellingShingle Влияние изовалентного легирования висмутом на свойства эпитаксиального арсенида галлия
Шутов, С.В.
Материалы для электронных компонентов
title_short Влияние изовалентного легирования висмутом на свойства эпитаксиального арсенида галлия
title_full Влияние изовалентного легирования висмутом на свойства эпитаксиального арсенида галлия
title_fullStr Влияние изовалентного легирования висмутом на свойства эпитаксиального арсенида галлия
title_full_unstemmed Влияние изовалентного легирования висмутом на свойства эпитаксиального арсенида галлия
title_sort влияние изовалентного легирования висмутом на свойства эпитаксиального арсенида галлия
author Шутов, С.В.
author_facet Шутов, С.В.
topic Материалы для электронных компонентов
topic_facet Материалы для электронных компонентов
publishDate 1999
language Russian
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
format Article
title_alt Вплив ізовалентного легірування вісмутом на властивості епітаксіального арсениду галія
Materials for electronical components The impact of isovalent vismuth doping on properties of epitaxial gallium arsenide.
description Показана перспективность применения висмута в качестве металла-растворителя для жидкофазной эпитаксии арсенида галлия. The application prospects of bismuth as solvent of metal for gallium arsenide liquid-phase epitaxy has been shown.
issn 2225-5818
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122743
citation_txt Влияние изовалентного легирования висмутом на свойства эпитаксиального арсенида галлия / С.В. Шутов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 5-6. — С. 48-50. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT šutovsv vliânieizovalentnogolegirovaniâvismutomnasvoistvaépitaksialʹnogoarsenidagalliâ
AT šutovsv vplivízovalentnogolegíruvannâvísmutomnavlastivostíepítaksíalʹnogoarsenidugalíâ
AT šutovsv materialsforelectronicalcomponentstheimpactofisovalentvismuthdopingonpropertiesofepitaxialgalliumarsenide
first_indexed 2025-11-28T13:40:15Z
last_indexed 2025-11-28T13:40:15Z
_version_ 1850853735166640128