Производительность полирования анизотропных монокристаллических материалов для оптоэлектроники
В результате исследований закономерностей формирования прецизионных поверхностей элементов из анизотропных монокристаллических материалов для оптоэлектронной техники сформулирована обобщенная модель съема обрабатываемого материала при полировании суспензиями полировальных порошков. Установлено, что...
Saved in:
| Published in: | Сверхтвердые материалы |
|---|---|
| Date: | 2016 |
| Main Authors: | , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
2016
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/143834 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Производительность полирования анизотропных монокристаллических материалов для оптоэлектроники / А.Ю. Филатов, В.И. Сидорко, С.В. Ковалев, Ю.Д. Филатов, А.Г. Ветров // Сверхтвердые материалы. — 2016. — № 2. — С. 65-76. — Бібліогр.: 27 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-143834 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Филатов, А.Ю. Сидорко, В.И. Ковалев, С.В. Филатов, Ю.Д. Ветров, А.Г. 2018-11-12T20:56:10Z 2018-11-12T20:56:10Z 2016 Производительность полирования анизотропных монокристаллических материалов для оптоэлектроники / А.Ю. Филатов, В.И. Сидорко, С.В. Ковалев, Ю.Д. Филатов, А.Г. Ветров // Сверхтвердые материалы. — 2016. — № 2. — С. 65-76. — Бібліогр.: 27 назв. — рос. 0203-3119 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/143834 621.623 В результате исследований закономерностей формирования прецизионных поверхностей элементов из анизотропных монокристаллических материалов для оптоэлектронной техники сформулирована обобщенная модель съема обрабатываемого материала при полировании суспензиями полировальных порошков. Установлено, что производительность полирования плоскостей сапфира с различной кристаллографической ориентацией возрастает в ряду m < c < a < r при увеличении объема, площади поверхности и наиболее вероятного размера частиц шлама, а также энергии диспергирования материала с обрабатываемой грани. В результаті дослідження закономірностей формування прецизійних поверхонь елементів з анізотропних монокристалічних матеріалів для оптоелектронної техніки сформульована узагальнена модель зняття оброблюваного матеріалу при поліруванні суспензіями полірувальних порошків. Встановлено, що продуктивність полірування площин сапфіру з різною кристалографічною орієнтацією зростає в ряду m < c < a < r при збільшенні об’єму, площі поверхні та найбільш ймовірного розміру частинок шламу, а також енергії диспергування матеріалу з грані, що оброблюється. The studies of regularities of formation of elements of precision surfaces of anisotropic single crystal materials for optoelectronic technology formulated generalized model of the processed material removal during polishing slurries polishing powders. It is found that the performance of the polishing planes of sapphire with different crystallographic orientations increases in the m < c < a < r by increasing the volume, surface area and particle size of the most probable slurry and energy dispersion material machined faces. ru Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України Сверхтвердые материалы Исследование процессов обработки Производительность полирования анизотропных монокристаллических материалов для оптоэлектроники Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Производительность полирования анизотропных монокристаллических материалов для оптоэлектроники |
| spellingShingle |
Производительность полирования анизотропных монокристаллических материалов для оптоэлектроники Филатов, А.Ю. Сидорко, В.И. Ковалев, С.В. Филатов, Ю.Д. Ветров, А.Г. Исследование процессов обработки |
| title_short |
Производительность полирования анизотропных монокристаллических материалов для оптоэлектроники |
| title_full |
Производительность полирования анизотропных монокристаллических материалов для оптоэлектроники |
| title_fullStr |
Производительность полирования анизотропных монокристаллических материалов для оптоэлектроники |
| title_full_unstemmed |
Производительность полирования анизотропных монокристаллических материалов для оптоэлектроники |
| title_sort |
производительность полирования анизотропных монокристаллических материалов для оптоэлектроники |
| author |
Филатов, А.Ю. Сидорко, В.И. Ковалев, С.В. Филатов, Ю.Д. Ветров, А.Г. |
| author_facet |
Филатов, А.Ю. Сидорко, В.И. Ковалев, С.В. Филатов, Ю.Д. Ветров, А.Г. |
| topic |
Исследование процессов обработки |
| topic_facet |
Исследование процессов обработки |
| publishDate |
2016 |
| language |
Russian |
| container_title |
Сверхтвердые материалы |
| publisher |
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України |
| format |
Article |
| description |
В результате исследований закономерностей формирования прецизионных поверхностей элементов из анизотропных монокристаллических материалов для оптоэлектронной техники сформулирована обобщенная модель съема обрабатываемого материала при полировании суспензиями полировальных порошков. Установлено, что производительность полирования плоскостей сапфира с различной кристаллографической ориентацией возрастает в ряду m < c < a < r при увеличении объема, площади поверхности и наиболее вероятного размера частиц шлама, а также энергии диспергирования материала с обрабатываемой грани.
В результаті дослідження закономірностей формування прецизійних поверхонь елементів з анізотропних монокристалічних матеріалів для оптоелектронної техніки сформульована узагальнена модель зняття оброблюваного матеріалу при поліруванні суспензіями полірувальних порошків. Встановлено, що продуктивність полірування площин сапфіру з різною кристалографічною орієнтацією зростає в ряду m < c < a < r при збільшенні об’єму, площі поверхні та найбільш ймовірного розміру частинок шламу, а також енергії диспергування матеріалу з грані, що оброблюється.
The studies of regularities of formation of elements of precision surfaces of anisotropic single crystal materials for optoelectronic technology formulated generalized model of the processed material removal during polishing slurries polishing powders. It is found that the performance of the polishing planes of sapphire with different crystallographic orientations increases in the m < c < a < r by increasing the volume, surface area and particle size of the most probable slurry and energy dispersion material machined faces.
|
| issn |
0203-3119 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/143834 |
| citation_txt |
Производительность полирования анизотропных монокристаллических материалов для оптоэлектроники / А.Ю. Филатов, В.И. Сидорко, С.В. Ковалев, Ю.Д. Филатов, А.Г. Ветров // Сверхтвердые материалы. — 2016. — № 2. — С. 65-76. — Бібліогр.: 27 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT filatovaû proizvoditelʹnostʹpolirovaniâanizotropnyhmonokristalličeskihmaterialovdlâoptoélektroniki AT sidorkovi proizvoditelʹnostʹpolirovaniâanizotropnyhmonokristalličeskihmaterialovdlâoptoélektroniki AT kovalevsv proizvoditelʹnostʹpolirovaniâanizotropnyhmonokristalličeskihmaterialovdlâoptoélektroniki AT filatovûd proizvoditelʹnostʹpolirovaniâanizotropnyhmonokristalličeskihmaterialovdlâoptoélektroniki AT vetrovag proizvoditelʹnostʹpolirovaniâanizotropnyhmonokristalličeskihmaterialovdlâoptoélektroniki |
| first_indexed |
2025-12-07T18:38:20Z |
| last_indexed |
2025-12-07T18:38:20Z |
| _version_ |
1850875787021910016 |