Шероховатость полированных поверхностей оптико-электронных элементов из монокристаллических материалов

В результате исследований закономерностей формирования плоскостей монокристаллов с различной кристаллографической ориентацией установлено, что при полировании сапфира параметры шероховатости Ra, Rq, Rmax уменьшаются в ряду c > r > m > a при уменьшении диэлектрической проницаемости, коэффици...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Сверхтвердые материалы
Date:2016
Main Authors: Филатов, А.Ю., Сидорко, В.И., Ковалев, С.В., Филатов, Ю.Д., Ветров, А.Г.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України 2016
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/143845
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Шероховатость полированных поверхностей оптико-электронных элементов из монокристаллических материалов / А.Ю. Филатов, В.И. Сидорко, С.В. Ковалев, Ю.Д. Филатов, А.Г. Ветров // Сверхтвердые материалы. — 2016. — № 3. — С. 63-76. — Бібліогр.: 32 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-143845
record_format dspace
spelling Филатов, А.Ю.
Сидорко, В.И.
Ковалев, С.В.
Филатов, Ю.Д.
Ветров, А.Г.
2018-11-13T19:59:15Z
2018-11-13T19:59:15Z
2016
Шероховатость полированных поверхностей оптико-электронных элементов из монокристаллических материалов / А.Ю. Филатов, В.И. Сидорко, С.В. Ковалев, Ю.Д. Филатов, А.Г. Ветров // Сверхтвердые материалы. — 2016. — № 3. — С. 63-76. — Бібліогр.: 32 назв. — рос.
0203-3119
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/143845
621.623
В результате исследований закономерностей формирования плоскостей монокристаллов с различной кристаллографической ориентацией установлено, что при полировании сапфира параметры шероховатости Ra, Rq, Rmax уменьшаются в ряду c > r > m > a при уменьшении диэлектрической проницаемости, коэффициента теплопроводности обрабатываемого материала, высоты частиц шлама и константы Лифшица, характеризующей энергию взаимодействия зерен полировального порошка с обрабатываемой поверхностью. Определены минимально допустимые значения параметров шероховатости атомарно гладких поверхностей, которые линейно
В результаті дослідження закономірностей формування площин монокристалів з різною кристалографічною орієнтацією встановлено, що при поліруванні сапфіру параметри шорсткості Ra, Rq, Rmax зменшуються в ряду c > r > m > a при зменшенні діелектричної проникності, коефіцієнта теплопровідності оброблюваного матеріалу, висоти частинок шламу та константи Ліфшиця, що характеризує енергію взаємодії зерен полірувального порошку з оброблюваною поверхнею. Визначено мінімально припустимі значення параметрів шорсткості атомарно гладких поверхонь, які лінійно залежать від міжплощинних відстаней та зменшуються в ряду r > a > c > m.
The studies of regularities of formation planes of single crystals with different crystallographic orientations found that in polishing sapphire roughness parameters Ra, Rq, Rmax decrease in the number of c> r> m> a with a decrease in the dielectric constant, thermal conductivity of the material being processed, the height of the sludge particles and the Lifshitz constant, characterizing the interaction energy grain polishing powder with treated surface. Determine the minimum allowable values atomically smooth surface roughness, which are linearly dependent on the interplanar distances and decrease to a number r> a> c> m.
ru
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
Сверхтвердые материалы
Исследование процессов обработки
Шероховатость полированных поверхностей оптико-электронных элементов из монокристаллических материалов
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Шероховатость полированных поверхностей оптико-электронных элементов из монокристаллических материалов
spellingShingle Шероховатость полированных поверхностей оптико-электронных элементов из монокристаллических материалов
Филатов, А.Ю.
Сидорко, В.И.
Ковалев, С.В.
Филатов, Ю.Д.
Ветров, А.Г.
Исследование процессов обработки
title_short Шероховатость полированных поверхностей оптико-электронных элементов из монокристаллических материалов
title_full Шероховатость полированных поверхностей оптико-электронных элементов из монокристаллических материалов
title_fullStr Шероховатость полированных поверхностей оптико-электронных элементов из монокристаллических материалов
title_full_unstemmed Шероховатость полированных поверхностей оптико-электронных элементов из монокристаллических материалов
title_sort шероховатость полированных поверхностей оптико-электронных элементов из монокристаллических материалов
author Филатов, А.Ю.
Сидорко, В.И.
Ковалев, С.В.
Филатов, Ю.Д.
Ветров, А.Г.
author_facet Филатов, А.Ю.
Сидорко, В.И.
Ковалев, С.В.
Филатов, Ю.Д.
Ветров, А.Г.
topic Исследование процессов обработки
topic_facet Исследование процессов обработки
publishDate 2016
language Russian
container_title Сверхтвердые материалы
publisher Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
format Article
description В результате исследований закономерностей формирования плоскостей монокристаллов с различной кристаллографической ориентацией установлено, что при полировании сапфира параметры шероховатости Ra, Rq, Rmax уменьшаются в ряду c > r > m > a при уменьшении диэлектрической проницаемости, коэффициента теплопроводности обрабатываемого материала, высоты частиц шлама и константы Лифшица, характеризующей энергию взаимодействия зерен полировального порошка с обрабатываемой поверхностью. Определены минимально допустимые значения параметров шероховатости атомарно гладких поверхностей, которые линейно В результаті дослідження закономірностей формування площин монокристалів з різною кристалографічною орієнтацією встановлено, що при поліруванні сапфіру параметри шорсткості Ra, Rq, Rmax зменшуються в ряду c > r > m > a при зменшенні діелектричної проникності, коефіцієнта теплопровідності оброблюваного матеріалу, висоти частинок шламу та константи Ліфшиця, що характеризує енергію взаємодії зерен полірувального порошку з оброблюваною поверхнею. Визначено мінімально припустимі значення параметрів шорсткості атомарно гладких поверхонь, які лінійно залежать від міжплощинних відстаней та зменшуються в ряду r > a > c > m. The studies of regularities of formation planes of single crystals with different crystallographic orientations found that in polishing sapphire roughness parameters Ra, Rq, Rmax decrease in the number of c> r> m> a with a decrease in the dielectric constant, thermal conductivity of the material being processed, the height of the sludge particles and the Lifshitz constant, characterizing the interaction energy grain polishing powder with treated surface. Determine the minimum allowable values atomically smooth surface roughness, which are linearly dependent on the interplanar distances and decrease to a number r> a> c> m.
issn 0203-3119
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/143845
citation_txt Шероховатость полированных поверхностей оптико-электронных элементов из монокристаллических материалов / А.Ю. Филатов, В.И. Сидорко, С.В. Ковалев, Ю.Д. Филатов, А.Г. Ветров // Сверхтвердые материалы. — 2016. — № 3. — С. 63-76. — Бібліогр.: 32 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT filatovaû šerohovatostʹpolirovannyhpoverhnosteioptikoélektronnyhélementovizmonokristalličeskihmaterialov
AT sidorkovi šerohovatostʹpolirovannyhpoverhnosteioptikoélektronnyhélementovizmonokristalličeskihmaterialov
AT kovalevsv šerohovatostʹpolirovannyhpoverhnosteioptikoélektronnyhélementovizmonokristalličeskihmaterialov
AT filatovûd šerohovatostʹpolirovannyhpoverhnosteioptikoélektronnyhélementovizmonokristalličeskihmaterialov
AT vetrovag šerohovatostʹpolirovannyhpoverhnosteioptikoélektronnyhélementovizmonokristalličeskihmaterialov
first_indexed 2025-12-07T18:44:58Z
last_indexed 2025-12-07T18:44:58Z
_version_ 1850876203994447872