Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath

Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath

The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of cathodic vacuum arc deposition of coatings. The electrostatic reflection of MP from the substrate is considered as a possible reason for the reduction in number of MPs in the presence of reactive gas. It is shown t...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2018
Hauptverfasser: Romashchenko, E.V., Bizyukov, A.A., Girka, I.О.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2018
Schlagworte:
Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/147354
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 176-180. — Бібліогр.: 27 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-147354
record_format dspace
spelling Romashchenko, E.V.
Bizyukov, A.A.
Girka, I.О.
2019-02-14T14:28:34Z
2019-02-14T14:28:34Z
2018
Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 176-180. — Бібліогр.: 27 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.40.Hf
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/147354
The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of cathodic vacuum arc deposition of coatings. The electrostatic reflection of MP from the substrate is considered as a possible reason for the reduction in number of MPs in the presence of reactive gas. It is shown that the probability of the electrostatic reflection increases with increasing the nitrogen pressure due to expansion of the region in the sheath where MP charge is negative. The MP charge in the collisional plasma sheath is calculated taking into account the dependence of the charge state of ions, ion fluxes and ion energies on the background gas pressure.
Наиболее важной технологической проблемой вакуумно-дугового осаждения покрытий является загрязнение макрочастицами (МЧ). Одной из возможных причин уменьшения числа частиц при наличии реактивного газа является электростатическое отражение МЧ от подложки. Показано, что вероятность электростатического отражения увеличивается с давлением азота благодаря расширению области в плазменном слое, где заряд МЧ отрицателен. Заряд МЧ рассчитан с учетом зависимости зарядового состава ионов, потоков и энергий ионов от давления газа.
Найбільш важливою технологічною проблемою вакуумно-дугового осадження покриттів є забруднення макрочастинками (МЧ). Однією з можливих причин зменшення кількості частинок у присутності реактивного газу є електростатичне відбиття МЧ від підкладки. Показано, що ймовірність електростатичного відбиття зростає з тиском азоту завдяки розширенню ділянки плазмового шару, де заряд МЧ є від’ємним. Заряд МЧ розраховано з урахуванням залежності зарядового складу іонів, потоків та енергій іонів від тиску газу.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath
Зарядження макрочастинки в шарі катодної дуги
Зарядка макрочастицы в слое катодной дуги
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath
spellingShingle Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath
Romashchenko, E.V.
Bizyukov, A.A.
Girka, I.О.
Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
title_short Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath
title_full Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath
title_fullStr Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath
title_full_unstemmed Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath
title_sort сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath
author Romashchenko, E.V.
Bizyukov, A.A.
Girka, I.О.
author_facet Romashchenko, E.V.
Bizyukov, A.A.
Girka, I.О.
topic Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
topic_facet Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия
publishDate 2018
language English
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Зарядження макрочастинки в шарі катодної дуги
Зарядка макрочастицы в слое катодной дуги
description The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of cathodic vacuum arc deposition of coatings. The electrostatic reflection of MP from the substrate is considered as a possible reason for the reduction in number of MPs in the presence of reactive gas. It is shown that the probability of the electrostatic reflection increases with increasing the nitrogen pressure due to expansion of the region in the sheath where MP charge is negative. The MP charge in the collisional plasma sheath is calculated taking into account the dependence of the charge state of ions, ion fluxes and ion energies on the background gas pressure. Наиболее важной технологической проблемой вакуумно-дугового осаждения покрытий является загрязнение макрочастицами (МЧ). Одной из возможных причин уменьшения числа частиц при наличии реактивного газа является электростатическое отражение МЧ от подложки. Показано, что вероятность электростатического отражения увеличивается с давлением азота благодаря расширению области в плазменном слое, где заряд МЧ отрицателен. Заряд МЧ рассчитан с учетом зависимости зарядового состава ионов, потоков и энергий ионов от давления газа. Найбільш важливою технологічною проблемою вакуумно-дугового осадження покриттів є забруднення макрочастинками (МЧ). Однією з можливих причин зменшення кількості частинок у присутності реактивного газу є електростатичне відбиття МЧ від підкладки. Показано, що ймовірність електростатичного відбиття зростає з тиском азоту завдяки розширенню ділянки плазмового шару, де заряд МЧ є від’ємним. Заряд МЧ розраховано з урахуванням залежності зарядового складу іонів, потоків та енергій іонів від тиску газу.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/147354
citation_txt Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 176-180. — Бібліогр.: 27 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT romashchenkoev shargingofamacroparticleincathodicarcsheath
AT bizyukovaa shargingofamacroparticleincathodicarcsheath
AT girkaio shargingofamacroparticleincathodicarcsheath
AT romashchenkoev zarâdžennâmakročastinkivšaríkatodnoídugi
AT bizyukovaa zarâdžennâmakročastinkivšaríkatodnoídugi
AT girkaio zarâdžennâmakročastinkivšaríkatodnoídugi
AT romashchenkoev zarâdkamakročasticyvsloekatodnoidugi
AT bizyukovaa zarâdkamakročasticyvsloekatodnoidugi
AT girkaio zarâdkamakročasticyvsloekatodnoidugi
first_indexed 2025-12-07T15:53:07Z
last_indexed 2025-12-07T15:53:07Z
_version_ 1850865391649161216

Ähnliche Einträge