Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath
The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of cathodic vacuum arc
 deposition of coatings. The electrostatic reflection of MP from the substrate is considered as a possible reason for
 the reduction in number of MPs in the presence of reactive ga...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2018 |
| Автори: | , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2018
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/147354 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 176-180. — Бібліогр.: 27 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862682491052097536 |
|---|---|
| author | Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. |
| author_facet | Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. |
| citation_txt | Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 176-180. — Бібліогр.: 27 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of cathodic vacuum arc
deposition of coatings. The electrostatic reflection of MP from the substrate is considered as a possible reason for
the reduction in number of MPs in the presence of reactive gas. It is shown that the probability of the electrostatic
reflection increases with increasing the nitrogen pressure due to expansion of the region in the sheath where MP
charge is negative. The MP charge in the collisional plasma sheath is calculated taking into account the dependence
of the charge state of ions, ion fluxes and ion energies on the background gas pressure.
Наиболее важной технологической проблемой вакуумно-дугового осаждения покрытий является загрязнение макрочастицами (МЧ). Одной из возможных причин уменьшения числа частиц при наличии реактивного газа является электростатическое отражение МЧ от подложки. Показано, что вероятность электростатического отражения увеличивается с давлением азота благодаря расширению области в плазменном слое,
где заряд МЧ отрицателен. Заряд МЧ рассчитан с учетом зависимости зарядового состава ионов, потоков и
энергий ионов от давления газа.
Найбільш важливою технологічною проблемою вакуумно-дугового осадження покриттів є забруднення
макрочастинками (МЧ). Однією з можливих причин зменшення кількості частинок у присутності реактивного газу є електростатичне відбиття МЧ від підкладки. Показано, що ймовірність електростатичного відбиття зростає з тиском азоту завдяки розширенню ділянки плазмового шару, де заряд МЧ є від’ємним. Заряд
МЧ розраховано з урахуванням залежності зарядового складу іонів, потоків та енергій іонів від тиску газу.
|
| first_indexed | 2025-12-07T15:53:07Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-147354 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T15:53:07Z |
| publishDate | 2018 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. 2019-02-14T14:28:34Z 2019-02-14T14:28:34Z 2018 Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath / E.V. Romashchenko, A.A. Bizyukov, I.О. Girka // Вопросы атомной науки и техники. — 2018. — № 4. — С. 176-180. — Бібліогр.: 27 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.40.Hf https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/147354 The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of cathodic vacuum arc
 deposition of coatings. The electrostatic reflection of MP from the substrate is considered as a possible reason for
 the reduction in number of MPs in the presence of reactive gas. It is shown that the probability of the electrostatic
 reflection increases with increasing the nitrogen pressure due to expansion of the region in the sheath where MP
 charge is negative. The MP charge in the collisional plasma sheath is calculated taking into account the dependence
 of the charge state of ions, ion fluxes and ion energies on the background gas pressure. Наиболее важной технологической проблемой вакуумно-дугового осаждения покрытий является загрязнение макрочастицами (МЧ). Одной из возможных причин уменьшения числа частиц при наличии реактивного газа является электростатическое отражение МЧ от подложки. Показано, что вероятность электростатического отражения увеличивается с давлением азота благодаря расширению области в плазменном слое,
 где заряд МЧ отрицателен. Заряд МЧ рассчитан с учетом зависимости зарядового состава ионов, потоков и
 энергий ионов от давления газа. Найбільш важливою технологічною проблемою вакуумно-дугового осадження покриттів є забруднення
 макрочастинками (МЧ). Однією з можливих причин зменшення кількості частинок у присутності реактивного газу є електростатичне відбиття МЧ від підкладки. Показано, що ймовірність електростатичного відбиття зростає з тиском азоту завдяки розширенню ділянки плазмового шару, де заряд МЧ є від’ємним. Заряд
 МЧ розраховано з урахуванням залежності зарядового складу іонів, потоків та енергій іонів від тиску газу. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath Зарядження макрочастинки в шарі катодної дуги Зарядка макрочастицы в слое катодной дуги Article published earlier |
| spellingShingle | Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath Romashchenko, E.V. Bizyukov, A.A. Girka, I.О. Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия |
| title | Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath |
| title_alt | Зарядження макрочастинки в шарі катодної дуги Зарядка макрочастицы в слое катодной дуги |
| title_full | Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath |
| title_fullStr | Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath |
| title_full_unstemmed | Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath |
| title_short | Сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath |
| title_sort | сharging of a macroparticle in cathodic arc sheath |
| topic | Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия |
| topic_facet | Плазменно-пучковый разряд, газовый разряд и плазмохимия |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/147354 |
| work_keys_str_mv | AT romashchenkoev shargingofamacroparticleincathodicarcsheath AT bizyukovaa shargingofamacroparticleincathodicarcsheath AT girkaio shargingofamacroparticleincathodicarcsheath AT romashchenkoev zarâdžennâmakročastinkivšaríkatodnoídugi AT bizyukovaa zarâdžennâmakročastinkivšaríkatodnoídugi AT girkaio zarâdžennâmakročastinkivšaríkatodnoídugi AT romashchenkoev zarâdkamakročasticyvsloekatodnoidugi AT bizyukovaa zarâdkamakročasticyvsloekatodnoidugi AT girkaio zarâdkamakročasticyvsloekatodnoidugi |