Onoprienko, A., Ivashchenko, V., Kozak, A., Sinelnichenko, A., & Tomila, T. (2019). Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target. Сверхтвердые материалы.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Onoprienko, A.A, V.I Ivashchenko, A.O Kozak, A.K Sinelnichenko, та T.V Tomila. "Deposition and Characterization of Thin Si–B–C–N Films by Dc Reactive Magnetron Sputtering of Composed Si/B₄C Target." Сверхтвердые материалы 2019.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Onoprienko, A.A, et al. "Deposition and Characterization of Thin Si–B–C–N Films by Dc Reactive Magnetron Sputtering of Composed Si/B₄C Target." Сверхтвердые материалы, 2019.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.