Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target
The effect of the gas mixture composition on the structure, chemical bond character and hardness of Si–B–C–N films was systematically studied. A series of Si–B–C–N films was deposited by reactive dc magnetron sputtering of the target composed of Si disc with B₄C chips placed in the sputtering zone o...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Сверхтвердые материалы |
|---|---|
| Datum: | 2019 |
| Hauptverfasser: | , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України
2019
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/167298 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target / A.A. Onoprienko, V.I. Ivashchenko, A.O. Kozak, A.K. Sinelnichenko, T.V. Tomila // Надтверді матеріали. — 2019. — № 2 (238). — С. 29-38. — Бібліогр.: 34 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862741803146412032 |
|---|---|
| author | Onoprienko, A.A. Ivashchenko, V.I. Kozak, A.O. Sinelnichenko, A.K. Tomila, T.V. |
| author_facet | Onoprienko, A.A. Ivashchenko, V.I. Kozak, A.O. Sinelnichenko, A.K. Tomila, T.V. |
| citation_txt | Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target / A.A. Onoprienko, V.I. Ivashchenko, A.O. Kozak, A.K. Sinelnichenko, T.V. Tomila // Надтверді матеріали. — 2019. — № 2 (238). — С. 29-38. — Бібліогр.: 34 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Сверхтвердые материалы |
| description | The effect of the gas mixture composition on the structure, chemical bond character and hardness of Si–B–C–N films was systematically studied. A series of Si–B–C–N films was deposited by reactive dc magnetron sputtering of the target composed of Si disc with B₄C chips placed in the sputtering zone of disc.
Досліджено вплив складу газової суміші на структуру, хімічні зв’язки та твердість Si–B–C–N-плівок, одержаних методом реакційного на постійному струмі магнетронного розпилення мішені, складеної з кремнієвого диску та пластинок B₄C, розміщених в зоні розпилення мішені.
Исследовано влияние состава газовой смеси на структуру, химические связи и твердость Si–B–C–N, полученных методом реакционного на постоянном токе магнетронного распыления мишени, состоящей из кремниевого диска, в зоне распыления которого были расположены пластинки соединения B₄C.
|
| first_indexed | 2025-12-07T20:21:48Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-167298 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 0203-3119 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T20:21:48Z |
| publishDate | 2019 |
| publisher | Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Onoprienko, A.A. Ivashchenko, V.I. Kozak, A.O. Sinelnichenko, A.K. Tomila, T.V. 2020-03-23T19:47:59Z 2020-03-23T19:47:59Z 2019 Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target / A.A. Onoprienko, V.I. Ivashchenko, A.O. Kozak, A.K. Sinelnichenko, T.V. Tomila // Надтверді матеріали. — 2019. — № 2 (238). — С. 29-38. — Бібліогр.: 34 назв. — англ. 0203-3119 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/167298 539.23:620 The effect of the gas mixture composition on the structure, chemical bond character and hardness of Si–B–C–N films was systematically studied. A series of Si–B–C–N films was deposited by reactive dc magnetron sputtering of the target composed of Si disc with B₄C chips placed in the sputtering zone of disc. Досліджено вплив складу газової суміші на структуру, хімічні зв’язки та твердість Si–B–C–N-плівок, одержаних методом реакційного на постійному струмі магнетронного розпилення мішені, складеної з кремнієвого диску та пластинок B₄C, розміщених в зоні розпилення мішені. Исследовано влияние состава газовой смеси на структуру, химические связи и твердость Si–B–C–N, полученных методом реакционного на постоянном токе магнетронного распыления мишени, состоящей из кремниевого диска, в зоне распыления которого были расположены пластинки соединения B₄C. The authors are grateful to Dr. O. I. Bykov and Dr. E. I. Olifan for XRD measurements. en Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України Сверхтвердые материалы Одержання, структура, властивості Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target Article published earlier |
| spellingShingle | Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target Onoprienko, A.A. Ivashchenko, V.I. Kozak, A.O. Sinelnichenko, A.K. Tomila, T.V. Одержання, структура, властивості |
| title | Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target |
| title_full | Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target |
| title_fullStr | Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target |
| title_full_unstemmed | Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target |
| title_short | Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target |
| title_sort | deposition and characterization of thin si–b–c–n films by dc reactive magnetron sputtering of composed si/b₄c target |
| topic | Одержання, структура, властивості |
| topic_facet | Одержання, структура, властивості |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/167298 |
| work_keys_str_mv | AT onoprienkoaa depositionandcharacterizationofthinsibcnfilmsbydcreactivemagnetronsputteringofcomposedsib4ctarget AT ivashchenkovi depositionandcharacterizationofthinsibcnfilmsbydcreactivemagnetronsputteringofcomposedsib4ctarget AT kozakao depositionandcharacterizationofthinsibcnfilmsbydcreactivemagnetronsputteringofcomposedsib4ctarget AT sinelnichenkoak depositionandcharacterizationofthinsibcnfilmsbydcreactivemagnetronsputteringofcomposedsib4ctarget AT tomilatv depositionandcharacterizationofthinsibcnfilmsbydcreactivemagnetronsputteringofcomposedsib4ctarget |