Зображення обкладинки

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target

The effect of the gas mixture composition on the structure, chemical bond character and hardness of Si–B–C–N films was systematically studied. A series of Si–B–C–N films was deposited by reactive dc magnetron sputtering of the target composed of Si disc with B₄C chips placed in the sputtering zone o...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Сверхтвердые материалы
Дата:	2019
Автори:	Onoprienko, A.A., Ivashchenko, V.I., Kozak, A.O., Sinelnichenko, A.K., Tomila, T.V.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України 2019
Теми:	Одержання, структура, властивості
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/167298
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target / A.A. Onoprienko, V.I. Ivashchenko, A.O. Kozak, A.K. Sinelnichenko, T.V. Tomila // Надтверді матеріали. — 2019. — № 2 (238). — С. 29-38. — Бібліогр.: 34 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)

Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B₄C target
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2015)

Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2015)

Structure and properties of the coatings of the Al–B–Si–C system deposited by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2020)

Stydy on resistivity and micostructure of magnetron sputtered α-C:Si films
за авторством: Onoprienko, A.A., та інші
Опубліковано: (2006)

Influence of nitrogen on the microstructure, hardness and tribological properties of Cr–Ni–B–C–N films deposited by DC magnetron sputtering
за авторством: O. O. Onopriienko, та інші
Опубліковано: (2020)

Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)

Magnetron sputtering of high temperature composite ceramics AlN-TiB₂-TiSi₂
за авторством: Torianik, I.N., та інші
Опубліковано: (2013)

Влияние in situ образованных боридов TiВ₂–VB₂ на структуру и свойства горячепрессованной керамической системы B₄C–(TiH₂–VC)
за авторством: Кайдаш, О.Н., та інші
Опубліковано: (2018)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)

Іскро-плазмове спікання металокерамічного композита Cu–(LaB6–TiB2) та його фізико- механічні властивості
за авторством: Соловйова, Т.О., та інші
Опубліковано: (2019)

Magnetron sputtering of high temperature composite ceramics AlN-TiB2-TiSi2
за авторством: I. N. Torianik, та інші
Опубліковано: (2013)

Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)

The influence of B3Si on the structure and properties of B4C ceramics
за авторством: P. V. Mazur, та інші
Опубліковано: (2023)

Partial quasibinary eutectic in the system B4C−SiC
за авторством: D. A. Zakarjan
Опубліковано: (2015)

Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: M. I. Mokhnenko, та інші
Опубліковано: (2015)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2005)

Synthesis of TiO₂ different phase by DC magnetron sputtering
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)

Частичная квазибинарная эвтектика в системе B₄C−SiC
за авторством: Закарян, Д.А.
Опубліковано: (2015)

Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)

Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)

Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)

Об устойчивости изолированных пор в спеченных твердых сплавах (Ti,W)C–WC–Co
за авторством: Давиденко, С.А.
Опубліковано: (2019)

Structure and phase composition of ZrB2-SiC-AlN plasma coatings on the surfae of C/C-SiC composite materials
за авторством: Ju. S. Borisov, та інші
Опубліковано: (2019)

Формування шарової структури WC–(Cо,Ni,Al) на поверхні різальної пластини з твердого сплаву WC–7(W, Ti)С–10Cо у зоні контакту з розплавом Ni₃Al
за авторством: Прокопів, М.М.
Опубліковано: (2019)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)

Вплив умов отримання на мікроструктуру, фазовий склад та властивості евтектичного сплаву системи WC–W₂C
за авторством: Троснікова, І.Ю., та інші
Опубліковано: (2019)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Chemical composition and light emission properties of Si-rich-SiOx layers prepared by magnetron sputtering
за авторством: Khomenkova, L., та інші
Опубліковано: (2007)

Первопринципный расчет оптических спектров кристаллообразующих кластеров C₄₈, B₂₄N₂₄, Si₂₄C₂₄
за авторством: Овсянникова, Л.И., та інші
Опубліковано: (2008)

Directionally a crystallized ternary eutectic composite of the B4C–TaB2–SiC system
за авторством: M. I. Upatov, та інші
Опубліковано: (2022)

Structure and properties of sputtered powder of the eutectic B4C – TiB2 alloy
за авторством: P. I. Loboda, та інші
Опубліковано: (2015)

Structure and properties of directionally solidified alloy of B4–NbB2–SiC system
за авторством: M. I. Upatov, та інші
Опубліковано: (2020)

Physical Mechanisms of SiO2 Target Sputtering with Accelerated Ions of C60
за авторством: M. V. Maleev, та інші
Опубліковано: (2015)

Formation of porous zinc nanosystems using direct and reverse flows of DC magnetron sputtering
за авторством: Latyshev, V.M., та інші
Опубліковано: (2017)

Coatings properties Cr-Si-B-MgC2 in high conditions temperatures
за авторством: V. V. Shchepetov, та інші
Опубліковано: (2022)

Coatings properties Cr-Si-B-MgC2 in high conditions temperatures
за авторством: Shchepetov , Vitalii, та інші
Опубліковано: (2022)

Intrinsic defects in nonstoichiometric b-SiC nanoparticles studied by pulsed magnetic resonance methods
за авторством: D. V. Savchenko, та інші
Опубліковано: (2010)