About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon
The experimental dependence of the etching rate monosilicon of self-bias voltages on the active electrode at other constant conditions in the discharge is shows. With increasing negative bias potential monosilicon etching rate increases, then reaches a maximum at Ubias ≈ - (140…160 V). Further incre...
Збережено в:
| Дата: | 2010 |
|---|---|
| ISSN: | 1562-6016 |
| Автори: | Fedorovich, O.A., Kruglenko, M.P., Polozov, B.P. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2010
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/17499 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | About influence of energy of electrons and ions on speed of electron- and ion-stimulated plasmachemical etching of silicon / O.A. Fedorovich, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov // Вопросы атомной науки и техники. — 2010. — № 6. — С. 185-187. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2009)
About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2015)
Influence of increased sliding speed on the structure and properties of piston rings with ion-plasma coating
за авторством: Skoblo, T.S., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Skoblo, T.S., та інші
Опубліковано: (2018)
Simulating study of plasmachemical erosion of a-C:H films in a ECR discharge plasma
за авторством: Konovalov, V.G., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Konovalov, V.G., та інші
Опубліковано: (2011)
The empirical formula of dependence of factor of disintegration of nonideal plasma from electrons concentration
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2011)
Modernized equipment for plasmachemical etching of insulation of p-n transition of photoelectric converters
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2007)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2007)
About unrealization of tungsten lines up to the ground state in the nonideal plasma of pulse discharges in water
за авторством: Fedorovich, O.A.
Опубліковано: (2009)
за авторством: Fedorovich, O.A.
Опубліковано: (2009)
Ion beam system for nanotrimming of functional microelectronics layers
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2011)
The forming system simulation for reactive gas ion source with decreased neutral gas inleakage
за авторством: Martynenko, P.A.
Опубліковано: (2017)
за авторством: Martynenko, P.A.
Опубліковано: (2017)
Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2018)
Features of electron beam evaporation under surface electron beam formation
за авторством: Mysiura, I.N., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Mysiura, I.N., та інші
Опубліковано: (2014)
Axial energy spread measurements of a 27.12 MHz multicusp ion source
за авторством: Voznyi, V.I., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Voznyi, V.I., та інші
Опубліковано: (2009)
Longitudinal extraction of H⁻ ions from Penning discharge with metal-hydride cathode
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2017)
Phase states of macroparticles under interaction of keV ion beam with dusty plasma
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2010)
Intrinsic stresses in multi-component nitride coatings produced by plasma immersion ion implantation
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2017)
Ion energy distribution and basic characteristics of plasma flows of nonself-sustained arc discharge
за авторством: Borisenko, A.G., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Borisenko, A.G., та інші
Опубліковано: (2015)
Influence of negative ions on atomic oxygen production in a hollow cathode discharge in O₂/Ar mixture
за авторством: Lavrukevich, Yu., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Lavrukevich, Yu., та інші
Опубліковано: (2017)
Stochastic heating of electrons in capacitive RF discharges by plasma oscillations
за авторством: Manuilenko, O.V.
Опубліковано: (2012)
за авторством: Manuilenko, O.V.
Опубліковано: (2012)
Generator of low pressure volume plasma with plasma electron source
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2018)
Influence of electron emission effectiveness on characteristics of negative corona discharge
за авторством: Bolotov, O., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Bolotov, O., та інші
Опубліковано: (2012)
On a possibility of creation of positive space charge cloud in a system with magnetic insulation of electrons
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2009)
On features of the radiation from pulsed discharges initiated by thick wires in water
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2015)
Behavior of molybdenum target in condition of irradiation by the high current relativistic electron beam
за авторством: Donets, S.E., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Donets, S.E., та інші
Опубліковано: (2018)
Anodic electron sheaths in low pressure hollow cathode discharge with large size anode
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Bazhenov, V.Yu., та інші
Опубліковано: (2015)
Investigation of electron cut-off in a cylindrical electrode system in pulsed magnetic field of an inductor
за авторством: Drozd, I., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Drozd, I., та інші
Опубліковано: (2018)
Charging processes of metal macroparticles in the low-temperature plasma at presence of high-energy electron beam
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2011)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2011)
Capture and transport of macroparticles in curved plasma duct at low magnetic field in the presence of an electron beam
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2014)
Electrolysite-plasma smoothing of relief on targets modified by a high-current relativistic electron beam
за авторством: Starovoytov, R.I., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Starovoytov, R.I., та інші
Опубліковано: (2018)
Electron energy probability function and dust charge in the temporal afterglow of a plasma with large dust density
за авторством: Denysenko, I.B., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Denysenko, I.B., та інші
Опубліковано: (2018)
Obtaining silicon carbide via chemical vapor, plasma-chemical and sublimation methods
за авторством: Zhuravlov, А.Yu., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Zhuravlov, А.Yu., та інші
Опубліковано: (2017)
Non-self-sustained arc discharge in vapors of constructional materials of nuclear power engineering
за авторством: Borisenko, A.G., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Borisenko, A.G., та інші
Опубліковано: (2018)
The bias voltage and its influence on the etching rate of silicon
за авторством: Fedorovich, О.А., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Fedorovich, О.А., та інші
Опубліковано: (2015)
Researching of acoustic waves in plasma-liquid system with pulsed discharge
за авторством: Iukhymenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Iukhymenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2015)
The research of double-pulse discharge in a plasma-liquid system with cylindrical geometry
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2012)
The obtaining and properties investigation of plasma formation at pulse discharge in water aerosol
за авторством: Iukhymenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Iukhymenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2013)
Metal micro-detectors: development of “transparent” position sensitive detector for beam diagnostics
за авторством: O. Fedorovich, O. Kovalchuk, V. Pugatch, O. Okhrimenko, D. Storozhyk, V. Kyva
Опубліковано: (2012)
за авторством: O. Fedorovich, O. Kovalchuk, V. Pugatch, O. Okhrimenko, D. Storozhyk, V. Kyva
Опубліковано: (2012)
Influence of corona discharge on paraffin combustion
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2018)
Plasma-catalytic system with wide-aperture rotating gliding discharge
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2018)
Plasma-liquid system with reverse vortex flow of “tornado” type (TORNADO-LE)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Nedybaliuk, O.A., та інші
Опубліковано: (2010)
Plasma catalysis of chemical reactions
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Chernyak, V.Ya., та інші
Опубліковано: (2014)
Схожі ресурси
-
Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2009) -
About peculiarities of self-bias voltage formation in plasma-chemical reactors with controlled magnetic fields
за авторством: Hladkovskiy, V.V., та інші
Опубліковано: (2015) -
Influence of increased sliding speed on the structure and properties of piston rings with ion-plasma coating
за авторством: Skoblo, T.S., та інші
Опубліковано: (2018) -
Simulating study of plasmachemical erosion of a-C:H films in a ECR discharge plasma
за авторством: Konovalov, V.G., та інші
Опубліковано: (2011) -
The empirical formula of dependence of factor of disintegration of nonideal plasma from electrons concentration
за авторством: Fedorovich, O.A., та інші
Опубліковано: (2011)